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一代的TESCAN--場發射掃描電鏡給用戶帶來了的技術優點（如改進的高性能電子設備使成像過程更快，快速掃描系統包括了動態與靜態圖像扭曲補償，有內置的編程軟件等）...

S8000G是TESCAN新S8000系列掃描電鏡的第yi個新成員，是yi款超高分辨雙束FIB-SEM系統，它可以提供的圖像質量，具有強大的擴展分析能力，并能以...

S8000 FE-SEM的優點：?新yi代鏡筒內電子加速、減速技術，保證了復雜樣品的低電壓高分辨觀測能力?*配置的靜電-電磁復合物鏡，物鏡無磁場外泄，實現磁性樣...

追求ji致性能！完成具挑戰性的納米分析工作。TESCAN推出了全新yi代S8000系列掃描電鏡，目前包括：S8000型超高分辨場發射掃描電鏡和S8000G型鎵離...

RIE反應離子刻蝕采用模塊化設計，可滿足III/V半導體和Si加工工藝領域的的靈活應用。 SENTECH SI 591可應用于各種領域的蝕刻工藝中，能夠完成多種...

EVG810LT是一款主要用于Si-Si直接鍵合和SOI鍵合的預鍵合系統， 廣泛應用于MEMS制造、晶圓級良好封裝和SOI系統以及化合物半導體等方面。目前，可以...

EVG805DB是一款主要用于薄基片加工領域鍵合分離設備。廣泛應用于存儲器，CMOS，3D-TSV，功率器件（如IGBTs），化合物半導體（如高亮度LEDs或R...

SI 500D等離子沉積系統是ICP-PECVD設備，利用ICP高密度等離子源來沉積電介質薄膜。可在極低溫度下（ 100ºC）沉積高質量SiO2, S...

EVG光刻機主要應用于半導體光電器件、功率器件、微波器件及微電子機械系統（MEMS）、硅片凸點、化合物半導體等領域，涵蓋了微納電子領域微米或亞微米級線條器件的圖...

納米壓印技術主要應用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS納米壓印工藝，LED納米透鏡陣列；微流體學；芯片實驗室；抗反射層；&#16...

納米壓印技術主要應用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS納米壓印工藝，LED納米透鏡陣列；微流體學；芯片實驗室；抗反射層；納米壓印光柵；蓮花效應；光子帶隙...

多用途的納米光刻系統eLINE Plus被廣泛用于大學和研究中心，該系統有很多多功能附件可供用戶選擇，滿足用戶對電子束光刻機多功能性的要求。除具有專業的電子束光...

PIONEERTM集成了電子束曝光及成像分析雙功能，是高校和科研人員的理想選擇。從理念上，PIONEERTwo是一個全新的*的設備，真正意義上實現了電子束曝光和...

通過參與好的端研究項目，通過和其他電子顯微鏡以及顯微分析的制造商的合作，TESCAN致力于持續不斷的改進產品以使其保持在微納技術創新解決方案領域內的競爭力。本著...

原子力顯微鏡AFM應用：應用于科研和工業界各領域，涵蓋了聚合物材料表征，集成光路測量，材料力學性能表征，MEMS制造，金屬/合金/金屬蒸鍍的性質研究，液晶材料性...

FERA3 XM是一款由計算機全控制的Xe等離子聚焦離子束（i-FIB）場發射掃描電子顯微鏡，可選配氣體注入系統 （GIS），可在高真空和低真空模式下工作，其具...

FERA3 GM是一款由計算機*控制的Xe等離子聚焦離子束（i-FIB）場發射掃描電子顯微鏡，可選配氣體注入系統 （GIS），可在高真空和低真空模式下工作，其具...

shi jie*個*集成式Xe等離子源聚焦離子束掃描電子顯微鏡----FERA3，提供了超高離子束束流（zui高束流為2µA），其濺射速度比Ga離子源...

OLS4500是一款集成了光學顯微鏡、激光顯微鏡和掃描探針掃描顯微鏡（SPM）功能于一體的新型納米檢測顯微鏡，可以實現從50倍到高100萬倍的超大范圍的觀察和測...

EVG500系列鍵合機主要應用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS納米壓印工藝，LED納米透鏡陣列；微流體學；芯片實驗室；抗反射層；納米壓印光柵；蓮花效應...