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產品特點1.采用高亮度和高穩定性的TFE電子槍2.出色的電子束偏轉控制技術3.采用場尺寸調制技術，電子束定位分辨率（address size）可達0.0012n...

高性能電子束曝光機是一款高性能的納米光刻系統，擁有完整200mm尺寸的光刻能力，這款電子束光刻系統代表了不斷進化的高度成功和廣為市場接受的EBPG系列產品。

EBPG5150使用了155mm大小的樣品臺，采用跟電子束曝光機EBPG5200一樣的通用光刻平臺設計，

PIONEER Two將專業電子束曝光設備和電子成像系統所有的先進性能，融合成一套獨立的成套系統。多功能性、穩定性、用戶友好性操作，使PIONEER Two系統...

探索超越電子束曝光功能的納米工程系統超高分辨電子束曝光、成像及納米工程系統納米加工領域的瑞士

納米光刻技術在微納電子器件制作中起著關鍵作用,而電子束光刻在納米光刻技術制作中是的方法之一。先進納米科技提供;的電子束納米光刻（EBL）系統，或稱電子束直寫（E...

納米光刻技術在微納電子器件制作中起著關鍵作用,而電子束光刻在納米光刻技術制作中是的方法之一。日本CRESTEC公司為21世紀先進納米科技提供的電子束納米光刻（E...

電子束光刻系統特點1.采用高亮度和高穩定性的TFE電子槍2.出色的電子束偏轉控制技術3.采用場尺寸調制技術，電子束定位分辨率（address size）可達0....

納米光刻技術在微納電子器件制作中起著關鍵作用,而電子束光刻在納米光刻技術制作的方法之一。

多用途的納米光刻系統eLINE Plus被廣泛用于大學和研究中心，該系統有很多多功能附件可供用戶選擇，滿足用戶對電子束光刻機多功能性的要求。除具有專業的電子束光...

PIONEERTM集成了電子束曝光及成像分析雙功能，是高校和科研人員的理想選擇。從理念上，PIONEERTwo是一個全新的*的設備，真正意義上實現了電子束曝光和...

shi jie*個*集成式Xe等離子源聚焦離子束掃描電子顯微鏡----FERA3，提供了超高離子束束流（zui高束流為2µA），其濺射速度比Ga離子源...