EVG®501 晶圓鍵合系統適用于學術界和工業研究的多功能手動晶圓鍵合系統

EVG501是一種高度靈活的晶圓鍵合系統，可以處理從單個芯片到150 mm（200 mm鍵合室為200 mm）的基板尺寸。該工具支持所有常見的晶圓鍵合工藝，例如陽極，玻璃粉，焊料，共晶，瞬態液相和直接法。易于使用的鍵合腔室和工具設計允許對不同的晶圓尺寸和工藝進行快速便捷的重新工具化，轉換時間不到5分鐘。這種多功能性是大學，研發機構或小批量生產的理想選擇。 EVG大批量制造工具（例如EVG GEMINI）上的鍵合室設計相同，鍵合配方易于轉移，可輕松擴大生產規模。

EVG®501 晶圓鍵合系統特征

壓力和溫度均勻性

兼容EVG機械和光學對準器

靈活的研究設計和配置

從單芯片到晶圓

各種工藝（共晶，焊料，TLP，直接粘合）

可選的渦輪泵（<1E-5mbar）

可升級用于陽極鍵合

開室設計，易于轉換和維護

兼容試生產

開室設計，易于轉換和維護

200毫米粘合系統的小占地面積：0.8平方米

配方與EVG的大批量生產粘合系統*兼容

技術數據

大接觸力：20千牛

加熱器尺寸150毫米200毫米                

小基板尺寸單芯片100毫米

真空：標準：0.1毫巴

可選：1E-5 mbar                               

高 溫度：450°攝氏度

單芯片加工：是                            

夾盤系統/對準系統

150毫米加熱器：EVG®610，EVG®620，EVG®6200

200毫米加熱器：EVG®6200，SmartView®NT

主動水冷                對于底面

陽極鍵合電源：高 電壓：2 kV；        高 電流：50 mA

裝載室：詳見手冊