高溫型烤膠機 參考價：面議
面板采用不銹鋼310S滲氮，耐高溫不變色設備;采用分層結構，有效隔熱，保護電器元件;四周裝有防燙護欄，降低事故發生率;蓋子帶可視窗，實驗過程實時監測
小巧型勻膠機/甩膠機/旋涂儀 參考價：面議
小巧型勻膠機/甩膠機/旋涂儀EasyCoater 4 被設計為結構緊湊、簡單易用，可多步操作，性能穩定，具有優異性價 比的小巧型勻膠機。結構緊湊 EZ4外型尺寸...
AC200自動滴膠勻膠機 參考價：面議
控溫勻膠機主要用于在半導體制造、納米技術等領域中，對各種基片進行均勻涂布處理。它通過精確控制轉速和溫度，實現高質量的旋涂效果。
電解拋光儀 參考價：面議
控溫電解雙噴儀是一種用于金屬材料電鏡樣品制備的精密儀器，具備自動控溫和多功能操作的特點。
等離子清洗機 參考價：面議
PT40K-BE等離子清洗機滿足8寸以下基片使用滿足8寸以下基片使用，適用性廣。它可以高效清洗，快速達成需要的表面親水性。在實驗過程中無環境污染、無化學品消耗、...
等離子清洗機 參考價：面議
PT13M-SE等離子清洗機滿足8寸以下基片使用,一鍵式操控，適用于科研院所等各種實驗環境；它是一種是低溫等離子體，能量低、密度高的設備，適合處理特殊材料；在實...
等離子清洗機 參考價：面議
PT13M-BE等離子清洗機滿足8寸以下基片使用,一鍵式操控，適用于科研院所等各種實驗環境；它是一種是低溫等離子體，能量低、密度高的設備，適合處理特殊材料；在實...
UM10-PE超薄切片機 參考價：面議
10寸全彩觸屏操作，定制單片機控制；高精度機械式推進結構，切片效果平穩連續；刀臺XYR三軸可調，電動精準控制刀臺位移；三目體視顯微鏡可直接觀察，外界4K顯示器；...
蒸發鍍膜設備 參考價：面議
1.EC400是一臺高真空蒸發鍍膜設備。2.設備主要由真空室、蒸發源、膜厚監測儀、樣品臺、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸摸屏自動控制系統等組成...
蒸發鍍膜機 參考價：面議
1.EC400是一臺高真空蒸發鍍膜設備。2.設備主要由真空室、蒸發源、膜厚監測儀、樣品臺、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸摸屏自動控制系統等組成...
熱蒸發鍍膜設備 參考價：面議
1.EC400是一臺高真空蒸發鍍膜設備。2.設備主要由真空室、蒸發源、膜厚監測儀、樣品臺、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸摸屏自動控制系統等組成...
磁控濺射鍍膜設備 參考價：面議
1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸...
多功能鍍膜設備 參考價：面議
1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸...
鈣鈦礦鍍膜設備 參考價：面議
1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸...
科研鍍膜機 參考價：面議
1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸...
實驗室鍍膜機 參考價：面議
1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸...
小型鍍膜設備 參考價：面議
1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸...
真空鍍膜設備 參考價：面議
鍍膜設備主要功能能夠在微顆粒表面沉積各種金屬薄膜(包括磁性金屬膜)、金屬氧化物薄膜、金屬氮化物薄膜及合金薄膜，且所鍍薄膜致密、均勻、純度高、附著力強等。
小型真空鍍膜機 參考價：面議
1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸...
鍍膜設備 參考價：面議
1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸...
多靶磁控濺射鍍膜系統 參考價：面議
1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸...
有機-金屬真空熱蒸鍍儀 參考價：面議
1.EC400是一臺高真空蒸發鍍膜設備。2.設備主要由真空室、蒸發源、膜厚監測儀、樣品臺、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸摸屏自動控制系統等組成...
衍生機（顯影） 參考價：面議
AC200衍生機（顯影）全新外觀設計,大氣,適配實驗室實驗操作，*進的設計理念,模塊化設計。
低溫紫外聚合包埋箱 參考價：面議
使用集成式的嵌入式控制系統紫外線波長可選365nm或395nm外形小巧輕便，節省空間光照強度可調節，一鍵切換照射方式耐低溫環境，可以在低至-20℃下工作自帶開門...
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