鍍膜設備主要功能
鍍膜設備是一種用于材料科學領域的科學儀器，能夠在微顆粒表面沉積各種金屬薄膜(包括磁性金屬膜)、金屬氧化物薄膜、金屬氮化物薄膜及合金薄膜，且所鍍薄膜致密、均勻、純度高、附著力強等。
1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。
2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸摸屏自動控制系統等組成。
3.該設備主機與控制一體化設計，操控方便；結構緊湊，占地面積小。
4.主要用途：
1. 開發納米級單層、多層及復合膜層等。
2. 制備金屬膜、合金膜、半導體膜、陶瓷膜及介質膜等，例：銀、鋁、 銅、鎳、鉻、鎳鉻合金、氧化鈦、氮化鈦、氮化鉻、ITO......
3. 兩靶單獨濺射、依次濺射、共同濺射。
5.應用領域：
1. 高校、科研院所的教學、科研實驗及生產型企業前期探索性實驗及開發新產品等。
2. 鈣鈦礦太陽能電池、OLED、OPV 太陽能電池等行業。
操作程序
真空鍍膜設備操作程序具體操作時請參照該設備說明書
和設備上儀表盤指針顯示及各旋鈕下的標注說明。
①檢查真空鍍膜機各操作控制開關是否在"關"位置。
②打開總電源開關，設備送電。
③低壓閥拉出。開充氣閥，聽不到氣流聲后，啟動升鐘罩閥，鐘罩升起。
④安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內。清理鐘罩內各部位，保證無任何雜質污物。
⑤落下鐘罩。
⑥啟動抽真空機械泵。
⑦開復合真空計電源(復合真空計型號：Fzh-1A)。
a.左旋鈕“1”順時針旋轉至指向2區段的加熱位置。
b.低真空表“2”內指針順時針移動，當指針移動至110mA時，左旋鈕"1"旋轉至指向2區段測量位置。
⑧當低真空表“2”內指針再次順時針移動至6.7Pa時，低壓閥推入。這時左旋鈕“1”旋轉至指向1區段測量位置。
⑨真空鍍膜機開通冷卻水，啟動擴散泵，加熱40min。
⑩低壓閥拉出。重復一次⑦動作程序：左下旋鈕“1”轉至指向2區段測量位置。低真空表“2”內指針順時針移動，當指針移動至6.7Pa時，開高壓閥(閥桿順時針旋轉)。
?等低真空表“2”內指針右移動至0.1Pa時，開規管燈絲開關。
a.發射、零點測量鈕“9”旋轉至指向發射位置。
b.左下旋鈕“1”旋轉至指向1區段測量位置。
?旋轉發射調節鈕“4”，使高壓真空表“5”內指針指向5。
?發射、零點、測量旋鈕“9”旋轉至指向零點位置。
?旋轉零點調節鈕“10”，讓高壓真空表“5”內指針指向0位置。
?發射、零點、測量旋鈕“9”旋轉至指向測量位置。
?旋轉標準調節鈕“3”，讓高壓真空表“5”內指針指向10。
?旋轉“倍加器”開關鈕“8”至指向10-12，當高壓真空表“5”內指針逆時針左移超過1時，再把“倍加器”開關旋鈕“8”旋轉至指向10-3。
?當高壓真空表“5”內指針逆時針移動超過6.7Pa時，開工件旋轉鈕開關，鐘罩內被鍍件PVDF膜轉動。
?開蒸發鈕開關。把電流分插塞插入蒸發電極分配孔內(設有1、2、3、4孔，可插入任意一孔)。
?右手旋轉右側調壓器手輪，慢慢旋轉升壓。
a.從視鏡窗口觀察鎢螺旋加熱子的加熱溫度顏色變化情況。
b.當鎢螺旋加熱子顏色變成黃橙色，鋁絲開始熔化時，左手操作擋板鈕，移開鎢螺旋上方擋板。
c.鋁絲全部熔化蒸發，擋板回原位。
d.右手旋轉調壓器手輪回零位。第一次蒸鍍工作完成。
21.如果再想蒸鍍一次(為了增加電極金屬層厚度)：把電流分插塞撥出插入另一個電極分配孔。重復?操作動作。
22.關閉規管燈絲開關。關閉高壓閥(逆時針轉手柄)。關閉工件旋轉。關閉蒸發。旋轉機械泵鈕至指向擴散泵位置。
23.低壓閥拉出。鐘罩充氣。充氣一段時間，當沒有氣.聲時，升鐘罩。
24.鎢螺旋加熱子內加鋁絲。PVDF薄膜調換另一面向下(原下面已鍍一層鋁膜面向上)。緊固在轉動圓盤上。
25.落鐘罩。開機械泵。
a.左下旋鈕“1”旋轉至指向2區段測量位置。
b.當低壓真空表“2”內指針順時針移動到6.7Pa時，低壓閥推入。
c.左下旋鈕“1”旋轉至指向1區段測量位置。
d.當低壓真空表“2”內指針順時針移動到6.7Pa時，開高壓閥。旋鈕“1”旋轉至指向2區段測量位置。
e.當低壓真空表“2”內指針順時針移動到指向0.1Pa時，開規管燈絲。
f.由?開始重復操作至?。
26.PVDF薄膜蒸鍍完鋁層后，按順序關閉規管燈絲、高壓閥、機械泵、擴散泵。把低壓閥拉出。鐘罩充氣，充氣完畢后升鐘罩。取出工件，做好鐘罩內清理工作。
a.落下鐘罩。
b.開機械泵，抽3~5min，停機械泵。
c.切斷供電總開關。
d.1h后再關閉冷卻水。操作全部完成。
27.正常生產中，如遇到突然停電時，要立即切斷高真空測量，關閉規管燈絲，高壓閥、低壓閥拉出。來電后，先讓機械泵啟動工作3~5min后，再轉入正常生產。
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