日立球差校正透射電子顯微鏡HF-5000，是日立的200kV球差校正場發射透射電鏡，采用冷場發射電子槍和全自動化的球差校正技術，在保證超高分辨率的同時大大簡化操作，實現高分辨觀察與易用性的*結合。HF-5000同樣具有超高空間分辨率的分析能力，配合電子能量損失譜（EELS）和大面積無窗能譜（EDS）可以對原子級圖像進行觀察和分析，是材料微觀結構研究的Z佳工具。

日立球差校正透射電子顯微鏡HF-5000

產品介紹：

HF-5000是日立的200kV球差校正場發射透射電鏡，采用冷場發射電子槍和全自動化的球差校正技術，在保證超高分辨率的同時大大簡化操作，實現高分辨觀察與易用性的*結合。HF-5000同樣具有超高空間分辨率的分析能力，配合電子能量損失譜（EELS）和大面積無窗能譜（EDS）可以對原子級圖像進行觀察和分析，是材料微觀結構研究的*工具。

 

日立球差校正透射電子顯微鏡HF-5000主要特點：

日立研發的全自動STEM球差校正器

高穩定、高亮度的冷場發射電子槍

TEM、STEM、SEM三位一體

大面積、大固體角的無窗能譜儀

全新設計的鏡筒和高壓系統

全新設計的保護罩和熒光屏相機

高穩定性側插樣品桿

兼容日立的特殊樣品桿和FIB系統

 

技術參數：

項目	主要參數
電子槍	冷場發射電子槍
加速電壓	60-200kV
TEM點分辨率	0.23nm
HAADF-STEM分辨率	0.078nm
能譜	無窗SDD能譜，2 x 100mm2，固體角2.0 Sr
電子能量損失譜	Gatan GIF Quantum or Enfinium spectrometer
圖像模式	TEM明場像、BF-STEM明場像、ABF-STEM環形暗場像、HAADF-STEM高角度環形暗場像、二次電子像、電子衍射花樣、特征X射線像（可選）、EELS像（可選）

 

應用領域：

HF-5000作為一款球差校正冷場發射透射電鏡，其分辨率達到了亞埃級，可以實現對樣品的超細微觀結構的觀察和分析，適用于金屬、陶瓷、半導體、納米材料等的觀察。同時，HF-5000*的TEM、STEM、SEM三位一體功能不僅可以實現對材料內部結構的研究，也可以獲得材料表面的信息。原子級分辨率的二次電子探測器可以彌補TEM和STEM無法觀察樣品表面的缺陷，同時相比普通的SEM又具有更高的分辨率，可以滿足樣品表面高分辨形貌和結構觀察的需求，與TEM和STEM形成互補。全自動化的球差校正過程又大大簡化了球差校正透射電鏡的使用難度，提高了觀察效率，尤其適合測試平臺和科研中心等用戶。