PICOSUN™P-300S系統已經成為高產能ALD制造 業的新標準。擁有的熱壁、*獨立的前驅 體管路和特殊的載氣設計， 確保我們可以生產  出具有優異的成品率、低顆粒水平和的電學 和光學性能的高質量ALD薄膜。高效緊湊的設計 使得維護更加方便、快捷， 最大限度的減少了系 統的維護停工期和使用成本。擁有技術的  Picoflow™使得在超高深寬比結構上沉積保形性 薄膜更高效， 并已在生產線上得到驗證。

PICOSUN™P-300S系統代表了工業化   ALD工藝。這個系統是為全自動的批量生產而設 計， 并與工業標準化的真空集群平臺相結合進行 單片操作。 P-300S系統通過SEMI S2/S8認證，可以通過SECS/GEM整合到自動化生產線上， 并能 滿足半導體行業嚴格的清潔要求。

The PICOSUN™ P-300S是IC行業創新驅動企業的 選ALD系統！

襯底尺寸和類型

•    最大300mm單片晶圓

•    高深寬比基底（最大深寬比1:2500）

工藝溫度

•    50 – 500°C

標準工藝

•   批量生產的平均工藝時間小于10秒/循環*

•   Al2O3, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, TiO2, ZrO2,AlN, TiN以及各種金屬

•    同一批次薄膜不均勻性<1% 1σ

(Al2O3, WIW, WTW, B2B, 49pts, 5mm EE)**

基片裝載

•    預真空室安裝磁力操作機械手

•    全自動裝載， Picoplatform™ 200或 Picoplatform™ 300真空集群系統

•    通過集群系統進行盒對盒式FOUP裝載

•     氮氣柜裝載

前驅體

•    液態、固態、氣態、臭氧源

•    源瓶余量傳感器，提供清洗和裝源服務

•     6根獨立源管線， 最多加載12個前驅體源