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目錄:沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司>>真空鍍膜機(jī)>>磁控濺射鍍膜>> VTC-1RF-SPC磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀

VTC-1RF-SPC磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀
  • VTC-1RF-SPC磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀
  • VTC-1RF-SPC磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀
  • VTC-1RF-SPC磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀
參考價(jià) 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
參考價(jià) 面議
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  • 品牌 其他品牌
  • 型號
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 沈陽市
屬性

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更新時(shí)間:2024-04-10 10:07:47瀏覽次數(shù):293評價(jià)

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VTC-1RF-SPC磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀是一套可實(shí)現(xiàn)射頻磁控濺射和蒸發(fā)鍍膜功能的系統(tǒng),包含射頻電源、溫控型蒸發(fā)鍍膜模塊、真空系統(tǒng),水冷設(shè)備,磁控濺射靶頭,不銹鋼腔室等。

VTC-1RF-SPC磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀是一套可實(shí)現(xiàn)射頻磁控濺射和蒸發(fā)鍍膜功能的系統(tǒng),包含射頻電源、溫控型蒸發(fā)鍍膜模塊、真空系統(tǒng),水冷設(shè)備,磁控濺射靶頭,不銹鋼腔室等。

產(chǎn)品名稱
VTC-1RF-SPC磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀


產(chǎn)品型號
VTC-1RF-SPC


主要參數(shù)
· 電源:AC380V/50HZ
· 額定功率:4.2KW
·外形尺寸:長840*寬750*高1900mm
·重量:約310KG



不銹鋼腔室
· 內(nèi)徑φ250*高度360mm;
· 腔體前部帶有一個(gè)CF100的真空密封法蘭,密封法蘭上面安裝了一個(gè)石英觀察窗口;
· 腔體右側(cè)帶有一個(gè)從CF60法蘭接口,用于和分子泵進(jìn)行連接
· 腔室上部有一個(gè)LF250法蘭接口,法蘭端蓋上部固定有濺射靶頭和樣品臺;
· 腔體左側(cè)帶有一個(gè)KF63法蘭接頭,用于連接蒸發(fā)模塊;
· 腔體右側(cè)帶有一個(gè)CF35法蘭接口,用于連接薄膜測厚儀;
· 腔體后部帶有兩個(gè)精密調(diào)節(jié)針閥,用于控制進(jìn)氣量,通過調(diào)節(jié)進(jìn)氣量的大小,實(shí)現(xiàn)腔體內(nèi)不同真空度的濺射;
· 腔體后部預(yù)留一個(gè)1/16英寸的卡套接口,用于客戶后期連接質(zhì)譜儀的檢測管道。

·腔室真空度:
冷態(tài)下,用VRD-48機(jī)械泵抽30分鐘,≤1Pa
冷態(tài)下,用FF-160/700分子泵抽30分鐘,≤8*10-4Pa

濺射靶頭
磁控濺射靶頭固定在上法蘭端蓋上,通過焊接波紋管密封,方向朝上,和樣品臺形成45度夾角
· 標(biāo)配1英寸的磁控濺射靶頭,內(nèi)部嵌有冷卻水管,可以通水冷實(shí)現(xiàn)對磁鋼和靶材的冷卻,從而能夠可以長時(shí)間進(jìn)行濺射;
· 配有一手動操作的擋板,當(dāng)?shù)谝淮螢R射清除靶材表面的氧化層和污物層,擋住基片,防止污染基片;
· 樣品臺和靶頭之間的距離可以調(diào)節(jié),調(diào)節(jié)范圍:60-100mm。
· 磁控濺射靶頭和法蘭端蓋可以電動升降
(可選配2英寸磁控濺射靶頭)
樣品臺
樣品臺固定在腔體上法蘭端蓋上,方向垂直朝下
·樣品臺通過磁流體密封,可實(shí)現(xiàn)樣品臺旋轉(zhuǎn)
·樣品臺旋轉(zhuǎn)速度:0.5-5r/min可調(diào)
·樣品臺尺寸:φ100mm,通過螺旋壓蓋固定樣品,可選配≤φ100mm的各種尺寸掩膜版,以實(shí)現(xiàn)對不同樣品尺寸的鍍膜制備
·樣品臺最高溫度可達(dá)700度(≤30min),長期使用溫度500度,樣品臺加熱系統(tǒng)通過一程序溫控系統(tǒng)進(jìn)行控制,可實(shí)現(xiàn)30段程序控溫,通過PTD調(diào)節(jié)實(shí)現(xiàn)精確控溫,控溫精度±3℃。

·樣品臺和法蘭端蓋可以電動升降

蒸發(fā)模塊
· 從腔室右端采用KF50快接法蘭與不銹鋼腔體進(jìn)行連接,保證腔室的真空度
· 采用鎢絲作為發(fā)熱源,并且配有專用的氧化鋁坩堝,熱電偶安裝在坩堝底部,以便于溫度測量和控制
· 標(biāo)配采用S型熱電偶,蒸發(fā)工作溫度為200-1300度
· 蒸發(fā)模塊加熱系統(tǒng)通過一程序溫控系統(tǒng)進(jìn)行控制,可實(shí)現(xiàn)30段程序控溫,通過PID調(diào)節(jié)實(shí)現(xiàn)精確控溫,控溫精度±3℃。
· 蒸發(fā)模塊和樣品臺之間的距離為:60mm
· 蒸發(fā)模塊坩堝尺寸:外徑φ19.6*內(nèi)徑φ15.4*高度24mm,可選配其它材質(zhì)坩堝,如不銹鋼坩堝等。
控制面板
控制面板采用一個(gè)7寸觸摸屏實(shí)現(xiàn)集成控制
· 可在觸摸屏上操作真空系統(tǒng),顯示真空度
· 可在觸摸屏上進(jìn)行樣品臺加熱溫控程序的設(shè)定和蒸發(fā)模塊溫控系統(tǒng)的設(shè)定
· 可控制樣品臺的旋轉(zhuǎn)并設(shè)置樣品臺旋轉(zhuǎn)速度
· 控制電動插板閥的啟動和關(guān)閉
射頻電源
· 輸入電源:220V
· 輸出功率:0-300W
· 輸出頻率:13.56 MHZ
· 冷卻方式:設(shè)備內(nèi)部的冷卻方式為風(fēng)冷    
· 尺寸:132(長)*442(寬)*405mm(高)
(可根據(jù)濺射靶材不同選配直流電源)
分子泵
· 分子泵型號:FF-160/700
· 抽氣速率:700L/S
· 極限壓強(qiáng):6*10-7Pa(不帶負(fù)載)
· 啟動時(shí)間:<4min
· 額定轉(zhuǎn)速:36000 R/min
· 冷卻方式:風(fēng)冷加水冷
· 抽氣口接口尺寸:CF160
· 帶電動插板閥:可在觸摸屏中控制電動閥的啟動和關(guān)閉

分子泵控制器
· 型號:TCP-II
· 電壓:AC220V/50HZ
· 輸出功率:750W
· 加速時(shí)間:5min
· 輸出頻率:0-1300HZ
復(fù)合真空計(jì)
· 型號:ZDF-III
· 工作電壓:AC220V 50/60HZ
· 電阻規(guī)阻值:約85歐
· 自動保護(hù)(電離)>10Pa
· 電阻規(guī)測量范圍:105-10-1Pa
· 電離規(guī)測量范圍:100-10-5Pa
前級機(jī)械泵(選配)
· 抽真空接口為KF40接口
· 真空泵:VRD-48,抽速48M3/H(13.3L/S)
· 電機(jī)功率:1500W
· 電機(jī)電源:AC380V/50HZ
· 極限真空:4*10-2Pa(不帶負(fù)載)
· 真空計(jì):ZDZ-52T V01型電阻真空計(jì)
水冷設(shè)備(選配)
· 型號:KJ-5000
· 工作電流:1.4-2.1A
· 制冷量:2361Btu/h
· 尺寸:55×28×43cm(長×寬×高)
膜厚檢測儀(選配)
· 一個(gè)精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上,可實(shí)時(shí)監(jiān)測薄膜的厚度,分別率為0.10 ?
· LED顯示屏顯示,同時(shí)也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)



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