UNIPOL-1210S自動壓力研磨拋光系統 參考價：面議
UNIPOL-1210S自動壓力研磨拋光系統主要用于材料研究領域。適用于金屬、陶瓷、玻璃、巖樣、礦樣等材料樣品的自動研磨拋光，也可用于工廠的小規模生產。該機具有...
UNIPOL-1503精密多功能拋光機 參考價：面議
UNIPOL-1503精密多功能拋光機設有三個加工工位，是可進行大尺寸樣品磨拋的桌面型磨拋機， 本機設置了Ø381mm的研磨拋光盤和三個加工工位以及一...
SYJ-50A金相試樣切割機 參考價：面議
SYJ-50A金相試樣切割機是利用高速旋轉的薄片砂輪截取金相試樣，是實驗室切割金屬試樣的專用設備,磨削切割可提高切削端面的光潔度，本機附有冷卻裝置，用于冷卻切削...
STX-203全自動金剛石線切割機 參考價：面議
STX-203全自動金剛石線切割機是專為材料研究人員而設計，用于脆性材料樣品的精密切割，可以對材料進行切片、切斷，旋轉轉臺也可以對試樣切割一定角度。可切割的材料...
HEATER系列加熱平臺 參考價：面議
HEATER系列加熱平臺是專為材料加工及材料研究實驗室而開發，采用鋁材質整體鑄造，單片機作為核心控制部件，升溫速度快，控溫精準，溫度高低可調，使用完畢后散熱速度...
SP-MSM系列多工位吸鑄熔煉爐 參考價：面議
SP-MSM系列多工位吸鑄熔煉爐是一款多工位的電弧熔煉吸鑄系統，可選配工位數量8/16/32，專門針對于合金的結構和相圖研究。由手套箱、X-Y-Z軸可移動機床和...
UNIPOL-830金相研磨拋光機 參考價：面議
UNIPOL-830金相研磨拋光機是我公司主要為各大院校及研究所、各金相實驗室設計研發的一款手動研磨拋光機，不僅可以研磨拋光金屬材料，也可以研磨拋光其它各類非金...
UNIPOL-810精密研磨拋光機 參考價：面議
UNIPOL-810精密研磨拋光機用于磨拋晶體、金屬、陶瓷、玻璃、巖樣、礦樣、PCB板、耐火材料、復合材料及密封件等，如光學元件、化合物半導體基片、陶瓷基片、藍...
VTC-110PAX高通量自動旋轉涂膜系統 參考價：面議
該自動鈣鈦礦涂膜系統采用自動吸液注液方式，注液后在基片表面自動旋涂出一層薄膜，旋涂后移動基片至烤膠機表面進行薄膜烘干。液體可進行攪拌防止沉淀，如需加熱可對液體進...
MSK-4680電池拆殼機 參考價：面議
MSK-4680電池拆殼機是一款適用于實驗室分析柱狀電池內部狀態的專用拆殼機，適用電池型號范圍有18650，26650，32650，4680等。本設備，體積小，...
PCE-66紫外臭氧清洗機（帶攪拌機構） 參考價：面議
PCE-66紫外臭氧清洗機（帶攪拌機構）是一款小型紫外臭氧清洗機，可用于清洗各種單晶基片，以保證更好的成膜質量。同時也可去除光刻膠、改善材料表面潤濕性、清洗SE...
PCE-66紫外臭氧清洗機 參考價：面議
PCE-66紫外臭氧清洗機是一款小型紫外臭氧清洗機，可用于清洗各種單晶基片，以保證更好的成膜質量。同時也可去除光刻膠、改善材料表面潤濕性、清洗SEM和TEM樣品...
MSK-HRP-3-E壓力可控型加熱輥軋機 參考價：面議
MSK-HRP-3-E是一款可前置調節壓力的加熱型輥軋機，最大壓力可達10T，兩個軋輥都有獨立的溫控儀表控制溫度，最高溫度可達150℃。此款軋機用于電池極片軋制...
GSL-1100X-PJF-A等離子表面處理儀 參考價：面議
GSL-1100X-PJF-A等離子表面處理儀是一款緊湊的大氣離子表面處理噴射系統，主要由射頻發生器、離子束頭組成。噴射的離子束流能在較低的溫度和沒有真空條件的...
SP-MSM500高真空金屬熔煉吸鑄澆鑄爐 參考價：面議
SP-MSM500高真空金屬熔煉吸鑄澆鑄爐是一款小型的非自耗式金屬電弧熔煉爐，既可以熔煉吸鑄也可以熔煉澆鑄，可在不破壞氣體保護氣氛的條件下翻轉合金錠進行多次熔煉...
SYJ-800 CNC劃片切割機 參考價：面議
SYJ-800 CNC劃片切割機是一款采用計算機三維控制的連續型切割機，通過在電腦上編程控制樣品的切割過程。主要適用于晶體、陶瓷、玻璃以及各種薄片狀材料的劃片及...
VTC-200真空旋轉涂膜機 參考價：面議
VTC-200真空旋轉涂膜機具有操作簡單、清理方便，體積小巧等優點，主要應用于各大專院校、科研院所的實驗室中進行薄膜的生成過程。工作時利用真空盤吸附的方式將樣品...
小型自動烘干刮膜機 參考價：面議
MSK-AFA-L1100小型自動烘干刮膜機廣泛用于各種高溫涂膜研究，例如陶瓷類薄膜、晶體類薄膜、電池材料薄膜、特殊納米薄膜等。
STX-600系列金剛石線切割機 參考價：面議
STX-600系列金剛石線切割機是經過CE認證的切割設備。主要用于材料分析樣品的精密切割，例如陶瓷、晶體、玻璃、金屬、巖石、熱電材料、紅外光學材料、復合材料以及...
平行板電容式PECVD 參考價：面議
平行板電容式PECVD是一種用等離子體激活反應氣體,促進在基體表面或近表面空間進行化學反應,生成固態膜的技術。等離子體化學氣相沉積技術的基本原理是在高頻或直流電...
GSL-1800X-ZF4蒸發鍍膜儀 參考價：面議
GSL-1800X-ZF4蒸發鍍膜儀是一款高真空的蒸發鍍膜儀，特別適合蒸鍍對氧較敏感的金屬膜（如Ti、Al 、Au等）和小分子的有機物。本機設有4個蒸鍍加熱舟，...
VTC-16-1HD單靶磁控濺射儀 參考價：面議
VTC-16-1HD單靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、...
VTC-600GD高真空磁控濺射儀 參考價：面議
VTC-600GD高真空磁控濺射儀是新自主研制開發的鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物...
鈣鈦礦鍍膜機 參考價：面議
鈣鈦礦鍍膜機主要由有機/金屬源蒸發沉積室、真空排氣系統、真空測量系統、蒸發源、樣品加熱控溫、電控系統、配氣系統等部分組成。適用于制備金屬單質薄膜、半導體薄膜、氧...
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