目錄:沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司>>真空鍍膜機>>磁控濺射鍍膜>> VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 地礦 |
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VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀配置三個靶槍，一個配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，兩個配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設(shè)備，特別適用于實驗室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等。
1、配置三個靶槍，一個配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，兩個配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜（靶槍可以根據(jù)客戶需要任意調(diào)換）。
2、可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛。
3、體積小，操作簡便。
4、整機模塊化設(shè)計，真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設(shè)計，可根據(jù)用戶實際需要調(diào)整。
5、可根據(jù)用戶實際需要選擇電源，可以一個電源控制多個靶槍，也可多個電源單一控制靶槍。
| 產(chǎn)品名稱 | VTC-600-3HD雙靶磁控濺射儀 | |
| 產(chǎn)品型號 | VTC-600-3HD | |
| 安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機（加注純凈水或者去離子水） 2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣（純度99.99%以上），需自備氬氣氣瓶（自帶?6mm雙卡套接頭）及減壓閥 4、工作臺：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上 5、通風(fēng)裝置：需要 | |
| 主要參數(shù) | 1、電源電壓：220V 50Hz 2、總功率：＜2.5KW 3、極限真空度：< E-6mbar（配合本公司設(shè)備使用可達到 E-5mbar） 4、工作溫度：RT-500℃，精度±1℃（可根據(jù)實際需要提升溫度） 5、靶槍數(shù)量：3個 6、靶槍冷卻方式：水冷 7、靶材尺寸：?2″，厚度0.1mm-5mm（因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同） 8、直流濺射功率：500W（可選） 9、射頻濺射功率：300W/500W（可選） 10、載樣臺：?140mm，可根據(jù)客戶需求選配加裝偏壓功能，以實現(xiàn)更高質(zhì)量的鍍膜。 11、載樣臺轉(zhuǎn)速：1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào) 12、保護氣體：Ar、N2等惰性氣體 13、進氣氣路：質(zhì)量流量計控制2路進氣，1個流量為100 SCCM，1個流量為200 SCCM | |
| 產(chǎn)品規(guī)格 | 主機尺寸：500mm×560mm×660mm， | |
| 標準配件 | 1直流電源控制系統(tǒng)2套 2射頻電源控制系統(tǒng)1套 3膜厚監(jiān)測儀系統(tǒng)1套 4分子泵（德國進口）1臺 5冷水機1臺 6冷卻水管（?6mm）4根 | |
| 可選配件 | 金、銦、銀、鉑等各種靶材 | |
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