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Nanoscribe公司推出全新IP-PDMS光刻膠，該雙光子聚合（2PP）打印材料可制作彈性體3D自由曲面結構。全新IP-PDMS光刻膠所具備的柔軟度，柔韌性，彈性和生物兼容性是為依賴于典型彈性體材料特性的應用而定制的。因此，該光敏樹脂材料可廣泛應用于未來多種領域，例如3D打印細胞支架和組織工程，3D結構表面，微流控設備和微機電系統（MEMS）等。IP-PDMS針對Nanoscribe的3D微納加工系統進行了優化，并兼容3D微納加工中尺度解決方案：

IP-PDMS光刻膠特性：

·       楊氏模量比IP-S低三個數量級，15.3MPa

·       高彈性特點，斷裂拉伸伸長率超過240%

·       低折射率特點

·       無生物毒性，符合ISO 10993-5 / USP 87

·       高柔韌性材料，廣泛適用于不同應用

左圖：萊布尼茨新材料研究所的抗壓強度測試

來自德國萊布尼茲新材料研究院（Leibniz INM, Institute for New Materials, Saarbrücken）的 René Hensel博士稱："Nanoscribe可直接3D打印的IP-PDMS光刻膠非常適合制作具有微觀形貌的功能性表面。可以省略費時的塑模環節，即將設計翻模到彈性體材料中，這全新的方式使更多新的設計變得可能。"

作為有機硅基彈性體材料，IP-PDMS具有與常規PDMS相似的性能，這使得新型IP-PDMS光刻膠成為制作具有柔軟，柔韌性和彈性特點的3D微納結構高精度增材制造的理想打印材料。IP-PDMS的無生物毒性特點（符合ISO國際標準）為生命科學和生物學領域的新型3D打印應用奠定基礎。全新光敏樹脂非常適合用于制作彈性體自由曲面細胞支架以及仿軟組織自然特征的3D設計。

由IP-PDMS打印的結構圖示（從左到右）：微錐結構特寫；微錐陣列；單個元素外徑僅50 µm的八面體；八面體陣列；不同體積大小的3D長方體陣列；長方體陣列特寫

科學家們通過研究壁虎驚人的爬行能力，了解到壁虎的每個腳底長者數百萬根極細的剛毛，而每根剛毛末端又有數百根更細的微納米結構分支，這使壁虎可以適應任何表面。近日，來自萊布尼茲新材料研究所（INM）的科學家們使用Nanoscribe的Photonic Professional系統設計各種不同形狀的3D粘附微納結構母版，然后將該母板通過復制壓模來最終制造3D粘附微納結構。該設計有望可應用于工業生產線的抓取任務，和更多其他應用，包括用于維護服務的攀爬機器人或用于清除繞地球軌道飛行的空間碎片系統等。

由3D微納加工母版經復制壓模制造的仿生學粘附微納結構陣列。

圖片來自于R. Hensel, INM – Leibniz Institute for New Materials

Nanoscribe的無掩模雙光子光刻技術具備*的設計自由度，能實現幾乎任何幾何形狀的粘附微納結構。科學家們運用該技術特別設計了帶翼面柱狀排列的漏斗形微納結構。通過調節翼面的角度，可以控制微納結構的粘合度，該微納結構無論是在干燥條件下甚至是水下都能表現出更強的粘合度。

通常這類設計和應用我們用復制工藝來制造的這些具有應用潛力的粘附微納柱狀陣列。然而，復制壓模工藝限制了設計自由度，例如較大的底切不能從模具上成形。 Nanoscribe開發的新型可直接打印的彈性體材料，為今后直接打印彈性微納結構的高級設計開辟了新的可能性。

Nanoscribe總部位于卡爾斯魯厄，作為一家德國高科技公司，基于雙光子聚合技術我們擁有納米級高精度增材制造技術，擁有針對科研和工業領域的創新定制化解決方案，實現了全球化銷售網絡和專業服務。經過十幾年的技術鉆研和開發，我們已然成為微納米高精度增材制造的市場先鋒者，推動者諸如微納光學，微機械，生物醫學工程，微流控，超材料等領域的創新項目。我們的業務遍布全球30多個國家，擁有超過2000名活躍的用戶。

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德國Nanoscribe 超高精度雙光子微納3D無掩模光刻系統：

     Photonic Professional GT2   雙光子微納3D無掩模光刻系統

     Quantum X                             雙光子灰度光刻微納打印設備