Nanoscribe QX系列雙光子無掩
Nanoscribe榮獲歐洲ECOC 2024行業大獎
Nanoscribe榮獲ECOC 2024行業大獎,
Quantum X align 三維光刻技術領航光子集成新突破
Nanoscribe 的 Quantum X 對準系統剛剛在歐洲頭部光通信展 ECOC 2024 上榮獲“Most Innovative Product“:具創新芯片級封裝/光學子組件獎"。
Most Innovative Product: Most Innovative Chip-Scale Packaging/Optical Sub Assembly Award Shortlist:
WINNER! Nanoscribe GmbH & Co. KG for Nanoscribe’s Quantum X align
同期獲獎的還有華為與相干聯合獲得的“具創新光子器件獎"等。
ECOC Exhibition 2024 是歐洲光通信會議與展覽(European Conference on Optical Communication, 簡稱 ECOC)的一部分。它是全球光通信行業頭部影響力的活動之一,專注于展示光纖通信技術的最新進展和創新,包括光網絡、光纖技術、光子器件和相關技術的應用。
ECOC Exhibition 吸引了來自全球的電信運營商、網絡設備制造商、組件供應商和科研機構。展覽會除了展示最新的產品和技術外,還包括技術研討會、專題討論會以及行業專家的演講,為業內人士提供一個交流、合作與學習的平臺。
2024年的 ECOC Exhibition 將繼續聚焦光通信行業的發展,展示光通信技術領域的突破性成果,以及在傳輸、網絡、光纖產品和光子集成等方面的最新進展。
在今年的展會上,Nanoscribe的Quantum X align 3D微納光刻系統榮獲了ECOC行業獎。這一創新系統在“芯片級封裝/光學子組件"類別中獲獎,因其能夠以納米級精度生產低損耗的光耦合器,推動了光子集成和封裝的發展。該技術通過精準的3D打印微光學元件,顯著提高了光耦合的可靠性和性能,這在光子學領域至關重要。這證明了 Nanoscribe 3D 光刻技術的強大實力,未來可期!
全新升級的Nanoscribe Quantum X align系統配備的2GL技術將雙光子聚合(2PP)的高分辨率與體素調整技術相結合,極大減少了打印層數,使得2GL成為目前基于2PP原理的最快速的微尺度3D打印方案。該技術在兼顧優異形狀精度和打印質量的同時實現高速打印,為全新應用領域奠定了基礎,可在提高打印質量前提下以更短的打印時間內制造更為精細的微光學系統。整個打印過程在保持高速掃描的同時實現實時動態調整激光功率。這使得聚合體素得到精確尺寸調整,以匹配任何3D形狀的輪廓。在無需切片步驟,不產生形狀失真的要求下,最終您將獲得具有無瑕疵光學級表面的任意3D打印設計的100%真實形狀。?Nanoscribe全新雙光子灰度光刻技術標志著基于2PP原理的3D微納加工新時代。除了微光學和光子學之外,這項技術還可適用于許多潛在應用,而高速打印、光學質量表面、精細的亞微米細節或紋理表面則成為了關鍵因素。Nanoscribe通過研發3D printing by 2GL,將體素調整技術引入到三維層面。
更多有關3D雙光子無掩模光刻技術和產品咨詢
歡迎聯系Nanoscribe中國分公司 - 納糯三維科技(上海)有限公司
德國Nanoscribe 超高精度雙光子微納3D無掩模光刻系統:
Photonic Professional GT2 雙光子微納3D無掩模光刻系統
Quantum X Align 雙光子納米自動對準系統
Quantum X shape 雙光子高性能3D微納加工系統
Quantuam X bio 雙光子高精度3D生物打印系統