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離子濺射儀 MC1000

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更新時間:2023/05/24 07:46:12瀏覽次數:2221

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產品簡介

產地類別 進口 應用領域 電子
日立MC1000離子濺射儀
產品介紹:日立MC1000離子濺射儀是由日立高新技術公司自行設計制造,針對掃描電鏡的精細需求而設計,適合微觀結構較復雜的樣品,尤其適合于場發射掃描電鏡的高倍率觀測應用。

詳細介紹

采用磁控型電極,大限度地減輕對樣品的損壞。

離子濺射儀 MC1000特色

  • 采用LCD觸摸屏,可以更加簡便地設定加工條件
  • 可處理較厚或較大的樣品(選配件)
  • 記憶功能可存儲常用加工條件

離子濺射儀 MC1000規格

項目說明
放電類型磁控二極管放電型(電場垂直于磁場)
電極組成反向平行盤(嵌入磁鐵)
電壓大 0.4 kV DC(直流可變)
電流大 40 mA DC
噴鍍速率 *1(大)
[條件]
壓力:7 Pa
放電電流:40 mA
標靶與樣品表面之間的距離:20 mm
Pt 靶(選配件)15 nm/min
Pt-Pd 靶(選配件)20 nm/min
Au 靶(選配件)35 nm/min
Au-Pd 靶(選配件)25 nm/min
樣品尺寸大直徑φ60 mm
大高度20 mm
機械泵135/162 l/min (50/60Hz)
靶材*2Pt , Pt-Pd (8:2) , Au , Au-Pd (6:4)
電源要求單相, 100 V AC (±10%) 15 A (50/60 Hz), 3-針插頭線纜(3 m)
尺寸寬度450 mm
長度391 mm
高度390 mm
重量主機:約 25 kg
機械泵:約 28 kg

*1

: 噴鍍速率僅供參考

*2

: 主機內不包括靶材。請從選項中選擇(鉑,鉑-鈀,金,金-鈀)。

 

應用領域:

離子濺射儀在掃描電鏡中應用十分廣泛,通過向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導電樣品的荷電現象,并提高觀測效率,另外可以使用噴碳附件對樣品進行蒸碳,實現不導電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。

  

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