日本Lasertec共聚焦顯微鏡在Si基板上透明薄膜的表面凹凸形狀測(cè)定

時(shí)間：2021-4-29閱讀：2567

概要

基板上涂覆透明膜的樣品，其表面形狀經(jīng)常用激光顯微鏡或干涉儀測(cè)量。但是受到基板反射光的影響，1um程度（或更薄）的透明膜的表面形狀難以測(cè)定。這里介紹基于反射分光膜厚測(cè)試的，Si晶圓上光刻膠的表面形狀測(cè)試案例。

緒論

對(duì)于樹(shù)脂類、金屬類制品等，其表面的幾十納米的凹凸形狀，通常可以用共聚焦顯微鏡測(cè)試。但是對(duì)于金屬等高反射率基板上的薄膜表面的形狀測(cè)試，在基板反射率明顯高于薄膜反射率時(shí)，經(jīng)常無(wú)法正確測(cè)定。

例如，考慮如圖1的Si基板上的單層膜結(jié)構(gòu)。其表面凹凸能否測(cè)出，取決于膜厚以及鏡頭的NA（即，數(shù)值孔徑）值。使用高NA鏡頭（NA=0.95）時(shí)，膜厚在幾十um以上時(shí)可準(zhǔn)確測(cè)定，幾um以下薄膜的情況，Si基板的反射光與薄膜表面的反射光難以分離，無(wú)法有效測(cè)定。

圖1 Si基板上光刻膠加工面的斷面圖（d～1um）

對(duì)于此類測(cè)試需求，方案之一是通過(guò)反射分光法測(cè)定膜厚。當(dāng)基板是Si晶圓或玻璃等平面的場(chǎng)合，可認(rèn)為由膜厚能夠推導(dǎo)出表面形狀。以此方法，即可用低倍寬視野鏡頭快速測(cè)出幾十nm的膜厚差異。

這里，圖1樣品由彩色共聚焦模式得到的圖像如圖2，由于加工的深度不同，8個(gè)由透明膜涂覆的凹槽，在圖像上看顏色各異。這里，利用薄膜干涉原理，可對(duì)薄膜的厚度進(jìn)行定量測(cè)量。

圖2 彩色共聚焦圖像（PMMA膜，Si基板）

測(cè)定條件：TU10x鏡頭（NA=0.3）

照明波長(zhǎng)：白色光（氙燈）

基于反射分光法的光刻膠膜厚分布測(cè)定

無(wú)色透明薄膜上之所以出現(xiàn)彩色的干涉光，是由于多重反射受干涉影響或增強(qiáng)或減弱，導(dǎo)致特定波長(zhǎng)的反射率變小。于是，對(duì)于特定波長(zhǎng)(λ)，其反射率強(qiáng)弱由膜厚（t）導(dǎo)致的相位差（θ）決定。于是，理論上，測(cè)出反射率即可以計(jì)算得到膜厚。計(jì)算式如下

實(shí)際上我們通過(guò)曲線擬合，基于最小二乘法得到膜厚結(jié)果。

圖5 分光膜厚分析（4號(hào)凹槽：214nm）

測(cè)定條件：TU10x鏡頭（NA=0.3）

照明波長(zhǎng)：436nm,486nm,514nm,546nm,578nm,633nm

對(duì)測(cè)試的具體操作做一說(shuō)明。利用6種波長(zhǎng)的可見(jiàn)光分別分別獲取共聚焦圖像，與另外測(cè)試得到的標(biāo)準(zhǔn)樣品數(shù)據(jù)對(duì)比分析，可得到每一像素點(diǎn)的、各波長(zhǎng)的反射率。

圖像內(nèi)區(qū)域（4號(hào)凹槽）的，各波長(zhǎng)圖像亮度轉(zhuǎn)換成反射率，并且基于給定光學(xué)模型進(jìn)行膜厚計(jì)算的畫(huà)面如圖5。光學(xué)模型設(shè)定為PMMA單層膜，其光學(xué)參數(shù)（n和k值）由數(shù)據(jù)庫(kù)導(dǎo)入（如圖6）。PMMA膜厚的可能范圍設(shè)定為0～2000nm，用最小二乘法進(jìn)行擬合。

對(duì)1至8號(hào)凹槽進(jìn)行同樣分析，得到膜厚結(jié)果如表1。各凹槽膜厚從392nm到19nm，由左到右逐漸減小。

表1 平均膜厚分析結(jié)果

（計(jì)算區(qū)域15um□，單像素點(diǎn)1.5um□）

視野全體的表面凹凸情況，僅由區(qū)域內(nèi)平均膜厚并不能判斷，需要對(duì)各像素點(diǎn)分別進(jìn)行膜厚解析。與上述同樣分析條件對(duì)全像素點(diǎn)進(jìn)行解析，得到膜厚分布圖像。

膜厚分布結(jié)果與考察

分析得到的膜厚分布圖像斷面圖如圖7。各凹槽測(cè)量位置的深度，與區(qū)域的平均值基本一致。斜面處反射光無(wú)法正常檢測(cè)的部分，出現(xiàn)噪聲干擾，設(shè)定亮度閾值可對(duì)噪聲判定為異常值后進(jìn)行處理。處理后得到的斷面圖如圖8。可進(jìn)一步得到3D圖像進(jìn)行直觀觀察（如圖9）。