光刻膠的光聚合反應(yīng)/水解反應(yīng)示意圖

時(shí)間：2021-1-22閱讀：3926

光聚合反應(yīng)示意圖

光分解型光刻膠，采用含有重氮醌類化合物(DQN)材料作為感光劑，其經(jīng)光照后,發(fā)生光分解反應(yīng)，可以制成正性光刻膠；光交聯(lián)型光刻膠采用聚乙烯醇月桂酸酯等作為光敏材料，在光的作用下，形成一種不溶性的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，而起到抗蝕作用，可以制成負(fù)性光刻膠。

光分解反應(yīng)示意圖

在半導(dǎo)體集成電路光刻開(kāi)始使用深紫外（DUV）光源以后，化學(xué)放大（CAR）逐漸成為行業(yè)應(yīng)用的主流。在化學(xué)放大光刻膠中，樹(shù)脂是具有化學(xué)基團(tuán)保護(hù)因而難以溶解的聚乙烯。化學(xué)放大光刻膠使用光致酸劑（PAG）作為光引發(fā)劑。

光交聯(lián)反應(yīng)示意圖

當(dāng)光刻膠曝光后，曝光區(qū)域的光致酸劑（PAG）將會(huì)產(chǎn)生一種酸。這種酸在后熱烘培工序期間作為催化劑，將會(huì)移除樹(shù)脂的保護(hù)基團(tuán)從而使得樹(shù)脂變得易于溶解。化學(xué)放大光刻膠曝光速遞是DQN光刻膠的10倍，對(duì)深紫外光源具有的光學(xué)敏感性，同時(shí)具有高對(duì)比度，對(duì)高分辨率等優(yōu)點(diǎn)。

化學(xué)放大光反應(yīng)示意圖

按照曝光波長(zhǎng)分類；光刻膠可分為紫外光刻膠（300~450nm）、深紫外光刻膠（160~280nm）、極紫外光刻膠（EUV，13.5nm）、電子束光刻膠、離子束光刻膠、X射線光刻膠等。不同曝光波長(zhǎng)的光刻膠，其適用的光刻分辨率不同。通常來(lái)說(shuō)，在使用工藝方法一致的情況下，波長(zhǎng)越短，加工分辨率越佳。

產(chǎn)品供應(yīng)：

產(chǎn)品	型號(hào)	光源	類型	分辨率	厚度（um)	適用范圍
厚膠 Thick Resist	SU-8 GM10xx系列	g/h/i-Line	負(fù)性	0.1um	0.1-200	具有較大的高寬比，透明度高，垂直度。
	SU-8 Microchem	g/h/i-Line	負(fù)性	0.5um	0.5-650	具有較大的高寬比，透明度高，垂直度。
	SPR220	g/h/i-Line	正性	1um	1—30	可用于選擇性電鍍電鍍，深硅刻蝕等工藝。
	NR26-25000P	g/h/i-Line	負(fù)性		20-130	厚度大，相對(duì)容易去膠。
電子束光刻膠	型號(hào)	光源	類型	分辨率	厚度（um)	適用范圍
	SU-8 GM1010	電子束	負(fù)性	100nm	0.1-0.2	可用于做高寬比較大的納米結(jié)構(gòu)。
	HSQ	電子束	負(fù)性	6nm	30nm~180nm	分辨率較好的光刻膠，抗刻蝕。
	XR-1541-002/004/006	電子束	負(fù)性	6nm	30nm~180nm	分辨率較好的光刻膠，抗刻蝕。
	HSQ Fox-15/16	電子束	負(fù)性	100nm	350nm~810nm	分辨率較好的光刻膠，抗刻蝕。
	PMMA(國(guó)產(chǎn))	電子束	正性	\	\	高分辨率，適用于電子束光刻工藝，較常用的電子束光刻正膠。
	PMMA（）	電子束	正性	\	\	MicroChem，分子量，適用于電子束光刻工藝，較常用的電子束光刻正膠。
薄膠	型號(hào)	光源	類型	分辨率	厚度（um)	適用范圍
	S18xx系列	g-Line	正性	0.5um	0.4-3.5	較常用的薄光刻膠，分辨率高，穩(wěn)定。
	SPR955系列	i-Line	正性	0.35um	0.7-1.6	高分辨率（0.35um）光刻膠，穩(wěn)定。
	BCI-3511	i-Line	正性	0.35um	0.5-2	國(guó)產(chǎn)0.35um光刻膠，已經(jīng)在量產(chǎn)單位規(guī)模使用。
	NRD6015	248nm	負(fù)性	0.2um	0.7-1.3	國(guó)產(chǎn)深紫外光刻膠，已經(jīng)在量產(chǎn)單位規(guī)模使用。
Lift off光刻膠	型號(hào)	光源	類型	分辨率	厚度（μm)	適用范圍
	KXN5735-LO	g/h/i-Line	負(fù)性	4μm	2.2-5.2	負(fù)性光刻膠;倒角65-80°，使用普通正膠顯影液顯影。
	LOL2000/3000	g/h/i-Line	/	NA	130nm-300nm	非感光性樹(shù)脂，可以被顯影液溶解，作為lift off雙層膠工藝中底層膠使用。
	ROL-7133	g/h/i-Line	/	4um	2.8-4	負(fù)性光刻膠，倒角75~80°，使用普通正膠顯影液。
光刻膠配套試劑	品名	主要成分	包裝	應(yīng)用	/	/
	正膠顯影液	TMAH 2.38%	4LR/PC	正膠顯影液	/	/
	正膠稀釋劑	PGMEA	4LR/PC	稀釋劑	/	/
	SU8 顯影液	PGMEA	4L/PC	顯影SU8光刻膠	/	/
	RD-HMDS	HMDS	500ml/PC	增粘劑	/	/
	OMNICOAT	見(jiàn)MSDS	500ml/PC	SU-8增粘劑	/	/

上述產(chǎn)品齊岳生物均可供應(yīng)，用于科研！

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