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當前位置：德國韋氏納米系統（香港）有限公司>>產品展示>>Thin Film薄膜沉積系統>>磁控濺射系統
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GSC-1000磁控濺射系統概述：帶有水冷或者加熱（高可加熱到700度）功能，大到6“旋轉平臺，大可支持到2個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵，極限真空可達1...
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