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光學接觸角測量儀可根據客戶的需求，針對不同的工作測試環境，提供相應的解決方案，如有技術請咨詢德國韋氏納米系統

Harrick Plasma 等離子清洗機真空泵具有悠久歷史的專業光學光譜儀器的設計和制造。自1969開始，Harrick Plasma ，行業享有盛名。該公司...

高功率等離子清洗機除了具有超清洗功能外，在特定條件下還可根據需要改變某些材料表面的性能。等離子體作用于材料表面，使表面分子的化學鍵發生重組，形成新的表面特性。對...

基本型等離子清洗機采用氣體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。等離子表面處理機外接一臺真空泵，工作時清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清...

等離子刻蝕ICP基片通過預真空室裝入。其避免與工藝室以及任意殘余刻蝕副產品接觸，從而提高了用戶安全性。預真空室還使得工藝室始終保持在真空下，從而隔絕外部濕氣，防...

液相擴散技術（LDT）提供了各種 基材和表面材料的干燥性能性能增強。這種專有的干燥工藝及其它的系統控制生成超純IPA氣霧劑層，在靜止的基板移動擴散去除水分，不留...

PDC-002等離子清洗機采用氣體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。等離子表面處理機外接一臺真空泵，工作時清洗腔中的等離子體輕柔...

氣體流量混合器可用于任何與等離子清洗機模型結合，有利于氣體混合，氣體的流量和真空壓力監測更精確的定量控制。

Harrick高功率擴展型等離子清洗機是一款多功能的工具，適用于刻蝕有機薄膜（10--100nm）以及表面活化改性。

AT-400原子層沉積系統高縱橫比沉積，具有良好的共形性;曝光控制，用于在 3D 結構上實現所需的共形性；預置有經驗證過的 3D 和 2D 沉積的優化配方；簡單...

在硅片等基板上附膜時，由于基板和薄膜的物理定數有異，產生應力，進而引起基板變形。由涂抹均勻的薄膜引起的變形的表現為基板的翹曲，而薄膜應力測量裝置FLX系列可從這...

ActiGraph人體運動能耗監測儀ActiGraph設備已經被超過60個國家的幾百所大學和研究機構所采用，主要的實驗室包括U.S. National Inst...

ActiGraph人體運動能耗監測儀ActiGraph設備已經被超過60個國家的幾百所大學和研究機構所采用，主要的實驗室包括U.S. National Inst...

PIE 代表 Plasma ，Ion ，ElectronPIE 專業致力于等離子刻蝕，清洗，表面處理和離子，電子束產品的應用。PIE INC 成立于等離子研究小...

杜邦蝕刻殘留物去除液

杜邦™plasmasolv®ekc265™蝕刻后殘留物去除

法國JFP是*的手動、半自動引線鍵合機的制造商，其產品特別適合于從實驗研究到小規模試產的電子封裝的需要。全新設計的WB-200型半自動細絲鍵合機非常適合實驗室研...

SWC-3000兆聲晶圓清洗機兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及*進的兆聲清洗。它可以在一個工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學試劑清洗、刷子清...

聲表面波SAW功率發生器Fxilie簡化和加速聲流控實驗的一款高精度，頻率的控制器。

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