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  • NPE-4000PECVD等離子增強化學氣相沉積系統

    NPE-4000PECVD等離子增強化學氣相沉積系統:能夠沉積高質量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到Z大可達12“ 直徑的基片上.采用淋浴頭電極或中空...

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  • NPE-3500 PECVD等離子體化學氣相沉積系統

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    型號: 所在地:國外參考價: 面議更新時間:2017/3/3 10:59:00 對比
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  • NPE-4000(M) PECVD等離子體化學氣相沉積系統

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    型號: 所在地:國外參考價: 面議更新時間:2017/3/3 10:58:33 對比
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  • NPE-3000 PECVD等離子體化學氣相沉積系統

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  • NPE-4000(A)全自動PECVD等離子體化學氣相沉積系統

    NPE-4000(A)全自動PECVD等離子體化學氣相沉積系統: NM的PECVD能夠沉積高質量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達12“ 的基片.淋...

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  • NPE-4000(ICPM)ICPECVD等離子體化學氣相沉積系統

    NPE-4000(ICPM)ICPECVD等離子體化學氣相沉積系統: NM的PECVD能夠沉積高質量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達12“ 的基片...

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  • NPE-4000(ICPA)全自動ICPECVD等離子體化學氣相沉積系統

    NPE-4000(ICPA)全自動ICPECVD等離子體化學氣相沉積系統: NM的PECVD能夠沉積高質量SiO2, Si3N4, DLC膜到Z大可達6“ 基片...

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