首頁 >> 供求商機
原子力顯微鏡(AFM) | 敲擊模式，接觸模式(選配)，所有探針或樣品掃描的AFM操作模式 |
近場掃描光學(xué)顯微鏡(NSOM) | 透射模式，反射模式，收集模式，照明模式 |
微分干涉對比(DIC) | 反射和透射 |
折射率成像(Refractive-Index Profiling) | 反射和透射 |
熱傳導(dǎo)及擴展電阻成像 | 接觸模式，敲擊模式，音叉反饋模式(無反饋激光引入干擾信號,選配) |
在線遠(yuǎn)場共聚焦(和拉曼及熒光光譜成像) | 反射和透射，針對選擇性拉曼散射超薄膜的探針增強拉曼散射 |
納米蝕刻(NanoLithography) | NanoFountainPen傳輸化學(xué)物質(zhì)和氣體，近場光刻及其他傳統(tǒng)納米蝕刻如電致氧化等，另一根探針進(jìn)行在線分析 |
納米壓痕(NanoIndentation) | 兆帕力的應(yīng)用，精確定位及力的控制，另一根探針進(jìn)行在線分析 |
以上所有功能都可以與在線AFM成像*兼容 |
樣品掃描器 | 壓電材料制薄片掃描器 (3D Flat Scanner™) 厚度為7毫米 |
探針掃描器 | zui多四個獨立控制的壓電材料制薄片掃描器模塊 (3D Flat Scanner™) 厚度為7毫米 |
掃描范圍 | 探針掃描模式，每只探針掃描范圍： 30 microns (XYZ) 樣品掃描模式，掃描范圍： 100 microns (XYZ) 樣品和探針掃描模式，掃描范圍： 130 microns (XYZ) 樣品和兩個探針掃描模式，掃描范圍： 160 microns (XY) |
掃描分辨率 | < 0.05 nm (Z) < 0.15 nm (XY) < 0.02 nm (XY) 低電壓模式 |
粗調(diào)定位 | 樣品粗調(diào)定位：XY馬達(dá)控制臺– 范圍5毫米 – 分辨率0.25微米 探針粗調(diào)定位：XY馬達(dá)控制臺– 范圍5毫米 – 分辨率0.25微米 Z馬達(dá)控制臺– 范圍10毫米 – 分辨率0.065微米 |
反饋機制 | 音叉反饋，懸臂梁光束反彈反饋(選配) |
樣品幾何要求 | 樣品尺寸：標(biāo)準(zhǔn)配置下,直徑zui大至16毫米 正置顯微鏡下使用,直徑zui大至34毫米 只使用探針掃描, 直徑zui大至55毫米 可按客戶要求定制大尺寸樣品操作儀器,直徑zui大至8英寸 特殊樣品形狀：如豎直樣品進(jìn)行邊緣成像等 |
探針 | 各種針尖外露的玻璃探針，各種常規(guī)懸臂梁硅探針均可使用 |
遠(yuǎn)場 | 受光衍射幾何限制 |
光學(xué) | 500納米 |
共聚焦 | 200納米 |
近場掃描光學(xué) | 100納米，條件下可達(dá)到50納米(由探針孔徑?jīng)Q定) |
形貌 | Z向噪聲0.05納米 rms. XY橫向分辨率：由針尖直徑和樣品的卷積決定 |
熱成像 | 100納米起，溫度靈敏度0.01ºC，300 ºC或更高(由樣品決定) |
電阻成像 | 25納米起 |
(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)
7