超高真空開爾文探針-材料表征 參考價：面議
超高真空開爾文探針-材料表征開爾文探針是一種非接觸、非破壞性振動電容裝置用于導電材料的功函或半導體或絕緣體材料表面的表面電勢，
表面光電壓譜系統-材料表征 參考價：面議
表面光電壓譜系統-材料表征表面光電壓譜系統150瓦直流可控光強的石英鹵素燈可以達到開路電位來評估卷對卷硅太陽能電池的質量，全數字化控制所有參數，包括光照強度和波...
俄歇電子能譜及電子衍射分析系統-材料表征 參考價：面議
俄歇電子能譜及電子衍射分析系統-材料表征俄歇電子能譜及低能電子衍射分析系統電子槍：型號 ：帶可調焦距和束斑直徑的雙靜電透鏡束流電壓：0-3KV束流電流：大50u...
大氣環境光電子發射光譜-材料表征 參考價：面議
大氣環境光電子發射光譜-材料表征1、大氣環境下使用2、功能：光電子發射光譜+開爾文探針3、測試能級：費米能級，導帶底能量，價帶頂能量，HOMO-LUMO，禁帶寬...
飛行時間二次離子質譜-材料表征 參考價：面議
飛行時間二次離子質譜-材料表征飛行時間二次離子質譜是一種非常靈敏的表面分析技術。可以廣泛應用于物理，化學，微電子，生物，制藥，空間分析等工業和研究方面。TOF-...
界面力學分析儀-材料表征 參考價：面議
界面力學分析儀-材料表征界面力學分析儀可以用來直接測量表面（諸如：無機物，金屬，氧化物，聚合物，玻璃，生物分子界面等）間靜態力和動態力，并在分子級領域內研究界面...
半自動切片機（16英寸）-半導體材料 參考價：面議
半自動切片機（16英寸）-半導體材料– 最大 16 英寸 （300mm x 300mm）– 真空卡盤：300mm x 300mm 方形
半自動劃片機（8英寸，12英寸）-半導體材料 參考價：面議
半自動劃片機（8英寸，12英寸）-半導體材料– 最大 16 英寸– 重復精度（Y 軸） ： 0.001– 可選 3 英寸刀片、BBD（刀片斷裂檢測儀）、NCS（...
半自動劃片機/切片機（6英寸）-半導體材料 參考價：面議
半自動劃片機/切片機（6英寸）-半導體材料適用于 6 英寸晶圓– 6 英寸硅晶圓– 緊湊尺寸的占地面積（寬 x 深 = 590 x 880）– 多處安裝劃片可劃...
探針臺-測試設備 參考價：面議
探針臺-測試設備(Analytical Probe Station)我司代理的探針臺型號很多，有晶圓探針臺、LCD/OLED探針臺、RF探針臺、LD/PD探針臺...
真空快速退火爐RTP-材料設備 參考價：面議
真空快速退火爐RTP-材料設備RTA（快速熱退火）； RTO（快速熱氧化）；注入退火；擴散；化合物半導體退火；滲氮；滲硅； 結晶化與致密化；
真空快速退火爐-材料設備 參考價：面議
真空快速退火爐-材料設備一般都是以紅外鹵素燈為發熱元件，升溫速度極快，采用熱電偶測溫并采用*的PID控制，具有很高的控溫精度，快速退火爐具有真空裝置，可在多種氣...
薄膜電阻及厚度測試設備 參考價：面議
薄膜電阻及厚度測試設備可按照需求配置單個或多個針對不同樣品的高敏感探頭進行測量，并通過顯示模塊輸出。檢測終輸出結果可顯示為薄膜電阻（Ohms/sq），薄膜電導（...
劃片機-材料設備 參考價：面議
劃片機-材料設備沿著中心線升高以便分離。薄膜層幫助元件阻攔污染或重壓。全部參數都由控制鍵盤設定。這是一款穩定，抗振動，和易操作的設備。
全自動貼片機-材料設備 參考價：面議
全自動貼片機-材料設備標準光學放大是持續可調的。這通過可調放大倍率達到高精度的放置器件。該款是一款堅固并且可靠的機械設計，操作簡易，兼容性高的產品。
摩擦學測試設備 參考價：面議
摩擦學測試設備目的是滿足摩擦學的需要。為了增加機械部件的性能和可靠性，公司和大學研究越來越多的涂層和基底材料的摩擦參數和磨耗阻力。針對客戶的需求，我們開發了多種...
涂層附著力檢測儀-測試設備 參考價：面議
涂層附著力檢測儀-測試設備1.快速簡易：壓痕并觀察壓痕效果2.高性價比：寶石探針消耗低（劃痕儀的10倍使用壽命）
球磨測厚儀-測試設備 參考價：面議
球磨測厚儀-測試設備控制單元自帶可編程的微處理器:速度，時間，球型，X，Y直徑，自帶LED光源，目鏡小刻度為0.02mm，自動厚度校準，工作時間范圍：1-30m...
口罩及濾料測試系統-氣溶膠設備（德國） 參考價：1000000
口罩及濾料測試系統-氣溶膠設備（德國）PFMT1000 濾料過濾效率測試系統, 口罩及濾材測試
納米顆粒采樣器-氣溶膠設備(德國） 參考價：150000
納米顆粒采樣器-氣溶膠設備（德國），partector TEM采樣器是簡單與強大之間的結合： 您可以將其用作簡單的調查儀器來快速識別納米顆粒 工作場所的來源。您...
狹縫擠出式涂布鍍膜機 參考價：面議
狹縫擠出式涂布鍍膜機粘度范圍：1-20000cps，應用襯底：玻璃， PET聚酯， 紙張，幅寬：90mm, 120mm, 300mm。
微型磁控濺射鍍膜設備 參考價：面議
微型磁控濺射鍍膜設備這款來自美國的微型磁控濺射系統滿足研究所和研發部門對真空薄膜沉積的性能要求，占用空間小，具有超高的性價比，可以向客戶提供優質的服務。
基質輔助脈沖激光沉積鍍膜系統 參考價：面議
基質輔助脈沖激光沉積鍍膜系統The polymer material will then deposit on the substrate while the ...
脈沖激光沉積鍍膜系統（PLD） 參考價：面議
脈沖激光沉積鍍膜系統（PLD）靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume狀等離子體狀態，然后被堆積到設在對面的基板上而成膜。PLD方法可以獲得擁有熱力學理論上準...
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