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2023
05-25

EVG納米壓印技術用于制作3D光學納米結構
首CHUANG的解決方案將SwissLithoNanoFrazo系統的高分辨率和3D打印功能與EVG的SmartNIL®技術的高產量和成本效益相結合面向MEMS、納米技術和半導體市場的晶圓鍵合...
2023
05-25

NIL納米壓印技術在生物醫療領域的應用
在過去的幾十年中，生物技術器件的小型化極大地改善了臨床診斷，藥物研究和分析化學。現代生物技術器件——如用于診斷、細胞分析和藥物發現的生物醫學MEMS(bioMEMS)——通常是基于芯片的，依賴于微米級...
2023
05-08

薄膜在線測厚儀的有哪些測量原理？
薄膜在線測厚儀的測量原理有4種：射線技術，X射線技術，近紅外技術和光學透過率技術2.1射線技術射線技術是最先應用于在線測厚技術上的射線技術，在上世紀60年代就已經廣泛用于超薄薄膜的在線厚度測量了。2....
2023
04-13

晶圓鍵合技術在LED應用中的研究進展（二）
1.2金屬鍵合對于高亮度垂直LED（high-brightnessverticalLED，HB-VLED）來說，鍵合界面必須具有高熱導和高電導的性能，幸運的是大部分金屬材料導熱性能好的同時導電性能也較...
2023
04-13

晶圓鍵合技術在LED應用中的研究進展（一）
0引言發光二極管（light-emittingdiode，LED）照明是利用半導體的電致發光發展而來的固態照明技術。自1907年第一只發光二極管問世，到20世紀90年代，人們對LED的研究進展緩慢，期...
2023
04-13

用于創新PIC封裝的晶圓級納米壓印技術
01引言數據中心、電信網絡、傳感器和用于人工智能高級計算中的新興應用，對于低功耗和低延遲的高速數據傳輸的需求呈現出指數級增長。我們比以往任何時候都更加依賴這些應用來確保這個世界更安全、更高效。在所有這...
2023
04-12

EVG推出全新突破速度和精度極限的掩模對準光刻機
相較上一代平臺，全新自動掩模對準系統（IQAlignerNT）產出率和對準精度提升兩倍，為EVG光刻解決方案帶來了全新應用微機電系統（MEMS）、納米技術以及半導體市場晶圓鍵合和光刻設備LINGXIA...
2023
04-12

光刻創新技術：EVG推出MLE無掩模曝光光刻技術
1.介紹對電子設備性能和靈活性的新要求正在使制造基礎架構從傳統的基于掩模的光刻技術轉變為用于高級封裝和異構集成的數字光刻技術。片上系統正在從單片解決方案轉向封裝，小芯片和功能塊中的模塊化系統。因此，對...
2023
04-12

MicroSense位移傳感器簡介
一、優勢簡介：MicroSense的高精度電容式位移傳在感器，除具有一般非接觸式儀器的共性外，還具有信噪比高、靈敏度高、零漂小、頻響寬、非線性小、精度穩定性好、抗電磁干擾能力強、使用方便等優點，在國內...
2023
04-12

基于無掩模光刻的高精度ITO電極濕法刻蝕工藝研究（結果與討論）
３結果與討論３.１顯影時間影響經過無掩模光刻機曝光后，目標圖案已轉移至ＩＴＯ玻璃上。將ＩＴＯ玻璃放置于加熱板上進行加熱，烘除光刻膠中的殘留溶劑、水分，使光刻膠與ＩＴＯ玻璃結合更加緊密，此時，經過曝光的...
2023
04-12

基于無掩模光刻的高精度ITO電極濕法刻蝕工藝研究（引言+實驗）
１引言ＩＴＯ（ｉｎｄｉｕｍｔｉｎｏｘｉｄｅ）又稱氧化銦錫，是一種銦錫金屬氧化物，因其具有光學透明性［１］、高導電性［２］、易加工性［３］及柔性潛力［４］等優點，目前在光電檢測、生物芯片及微納器件等領域...
2023
04-10

超聲波清洗機能清洗硅片嗎？
可以的。隨著半導體材料技術的發展，對硅片的規格和質量也提出更高的要求，適合微細加工的大直徑硅片在市場的需求比例將日益加大。半導體,芯片,集成電路,設計,版圖,芯片,制造,工藝目前世界普遍采用先進的切、...
2023
03-14

ThetaMetrisis膜厚儀用于電池隔膜厚度測量
介紹：鋰電池由正極、負極和電解液組成。隔膜是形成微孔層的高分子膜，放置在電池的正負極之間，使正負極保持分開以防短路，同時確保離子電荷載體的傳輸。隔膜的結構和特性會顯著影響電池的性能，例如能量、功率密度...
2023
03-08

可以讓產品變性的機器，等離子清洗機？
等離子清洗是等離子表面改性的其中較為常見的一種方式。等離子清洗的作用主要是：（1）對材料表面的刻蝕作用--物理作用等離子體中的大量離子、激發態分子、自由基等多種活性粒子，作用到固體樣品表面，不但清除了...
2023
02-20

EVG突破用于半導體高/級封裝的掩模對準光刻技術中的速度和精度障礙
面向MEMS，納米技術和半導體市場的晶圓鍵合和光刻設備的LINGXIAN供應商EVGroup（EVG）近日推出了IQAlignerNT，它是針對大批量先進封裝應用的新的，先進的自動掩模對準系統。新型I...
2023
02-20

EVG使用300mm晶圓光刻機制造MEMS透鏡
奧地利EVGroup（EVG）宣布，為形成手機用相機模塊高耐熱鏡頭，芬蘭HeptagonOy采用了EVG的光刻機(MaskAligner)“IQAligner”。EVG高級副總裁HermannWalt...
2023
02-20

【EVG新品發布】NT系列大幅度提高光刻對準和測試精度
在微電子、納米、半導體領域為晶片接合和光刻技術提供設備技術方案的供應商EVG近期推出了NT系列光刻機和對準測試機，這是一個全新的、已經被生產廠家驗證過的新型光刻曝光機以及晶圓對晶圓(W2W)接合曝光和...
2023
02-20

制造芯片的難題之光刻技術和掩模版制作
一、簡介第四次工業革命以數年前尚不存在的技術席卷了我們的生活，其中一些在幾十年前甚至無法想象。自動駕駛汽車已經在公共街道上進行測試；無人機正在調查地形，拍攝視頻，派發包裹；由專業人士和業余愛好者創建的...
2023
06-08

光學光刻技術（Optical lithography）
1.簡介光學光刻（Opticallithography），也稱為光學平版印刷術或紫外光刻，是在其他處理步驟（例如沉積，蝕刻，摻雜）之前用光刻膠對掩模和樣品進行構圖的方法。2.設備（接近式光刻機）2.1...
2023
02-16

光刻技術有哪些分類
光刻技術是將二維圖案轉印到平坦基板上的方法。可以通過以下兩種基本方法來實現圖案化：直接寫入圖案，或通過掩模版/印章轉移圖案。設定的圖案可以幫助生成襯底上的特征，或者可以由沉積的圖案形成特征。通過計算機...

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