產地類別 | 國產 | 價格區間 | 面議 |
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應用領域 | 綜合 |
VTC-600G高真空磁控濺射儀是新自主研制開發的鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600G高真空磁控濺射儀可選配多個靶槍,配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備,特別適用于實驗室研究固態電解質及OLED等。·可選配多個靶槍,配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜(靶槍可以根據客戶需要任意調換)。
·可制備多種薄膜,應用廣泛。
·體積小,操作簡便。
·整機模塊化設計,真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設計,可根據用戶實際需要調整。
·可根據用戶實際需要選擇電源,可以一個電源控制多個靶槍,也可多個電源單一控制靶槍。
產品 名稱 | VTC-600G高真空磁控濺射儀 | |
產品 型號 | VTC-600G | |
主要參數 | 1、結構:臺式前開門結構,后置抽氣系統。 2、極限真空:6.0X10-5Pa。 3、漏率:1h≤0.5Pa。 4、抽氣時間大氣至5.0X10-3約20分鐘。 5、真空泵組:機械泵+分子泵。 6、樣品臺:φ140、室溫-500℃、精度±1℃ (可根據實際需要提升溫度) 自轉5rpm-20rpm內可調。 可根據客戶需求選配加裝偏壓功能, 以實現更高質量的鍍膜。 7、加氣系統:質量流量計2路。 (氬氣/氮氣各一路) 8、靶頭與樣品臺中軸線夾角為34° 9、靶頭數量:3個(互成120°)。 10、 靶槍冷卻方式:水冷 11、靶材尺寸:φ2″,厚度0.1-5mm (因靶材材質不同厚度有所不同) | |
12、產品規格: ·尺寸: 整機尺寸:700mm×852mm×1529mm; | ||
序號 | 名稱 | 數量 | 圖片鏈接 |
1 | 樣品臺擋板 | (可選) |