奧林巴斯BX51M的八大觀察法

奧林巴斯BX51M金相顯微鏡（OLYMPUS BX51M），在工業檢測方面擁有八大觀察法去應對不同要求的產品觀察！下面我為大家詳細的介紹這八大觀察法！

*：暗視場觀察法，暗視場可以讓我們觀察來自樣本散射和衍射的光線。光源的光線會先穿過照明裝置的環形光學照明器件，然后再樣本上聚焦。樣本上的光線之時由Z軸上的瑕疵反射形成的。因此，我們可以觀察到比光學顯微鏡分辨率極限更小的、8nm級的微小劃痕和缺陷。暗視場適合檢測樣本上的微小劃痕及瑕疵和檢查表面光滑的樣本，包括晶圓。

（表面安裝板效果）

第二：偏振光觀察法，該顯微觀察技術所使用的偏振光是由一組濾鏡（檢偏器和起偏器）產生的。樣本特征會直接影響系統反射光強度。該觀察方法適用于觀察金相組織（例如：球墨鑄鐵中石墨的生長圖案）、礦物、LCD和半導體材料。

（石棉觀察效果）

第三：紅外線（IR）觀察法，對使用了硅片、玻璃等易投射紅外線的電子設備的內部進行無損檢測時，IR觀察十分有效。IR物鏡也可以用于近紅外線技術，例如：拉曼光譜和YGA激光修復應用。

（硅晶片下的半導體電路）

第四：處理濾鏡觀察法，濾鏡可以用于邊緣檢測、平滑處理和其他操作。使用處理濾鏡在拍攝的圖像上進行增強和修改處理后，圖像的特征變為可視化。為達到*效果，可使用預覽圖檢查或調整濾鏡的果。

（枝晶觀察效果）

第五：微分反射（DIC）觀察法，DIC是顯微觀察技術、可以將明視場觀察法中無法檢測到的高度差異，用增強對比度以浮雕或三維圖像的形式表現出來。該項基于偏振光的技術、擁有三個專門設計的棱鏡可供選擇以滿足用戶的需求。該觀察法適合于建成高度差異極其微小的樣本，包括金相組織、礦物、磁頭研磨面和硬盤表面及晶圓研磨面。

（磁頭觀察效果）

第六：熒光觀察法，該技術使用于觀察那些受到專門設計的濾鏡（可以按照檢測需求制作）照明時會出現熒光（發射出不同波長的光線）的樣本。該方法通過熒光染色。應用于觀察半導體晶圓表面的污物、抗腐蝕劑的殘渣和裂痕的檢測。可以添加選購的復消色差光源聚光透鏡系列，從而為可見光到近紅外范圍內的色差進行補償。

（半導體晶圓上的顆粒效果）

第七：投射觀察法，對于透明樣本，如，LCD、塑料和玻璃材料，可通過各種透射光聚光實現真正的透射光觀察。使用投射光可以在明視場、暗視場、DIC和偏振光中對樣本成像和檢查所有這些都在一個便捷的系統里。

（LCD彩色濾鏡觀察效果）

第八：3D觀察法，使用奧林巴斯的外部電動調焦單元，可以快速地記錄并組合超出焦深之外的樣本圖像。只要一鍵操作，使用其EFI功能便可以將各個不同焦深的圖像組合成一副3D圖像。zui終的3D數據可用于3D觀察或用于檢測高度和距離。

（硬幣的細節3D效果）

以上的詳細介紹是奧林巴斯BX51M的八大觀察方法！希望能為廣大檢測員和顯微鏡知識學習者帶來幫助。