在測量含鍍層金屬樣品時，電感耦合等離子體(ICP)和HDXRF的分析結果有時會不一樣。本應用報告解釋了出現這一情況的原因，以及如何辨別樣品是否含有鍍層。此外，這里還介紹了一種將含鍍層金屬樣品分析結果的偏差控制在zui小范圍的方法。

為什么ICP和HDXRF的分析結果會不一樣？

圖1是含鍍層金屬樣品的示意圖，通過其切面可以看到暴露的塊體合金。含鍍層金屬樣品至少由兩部分組成：塊體金屬合金和鍍層材料。如果塊體合金上有多個鍍層，那么樣品就可能包含兩個以上的組成部分。與塊體材料相比，鍍層材料厚度一般非常薄。無論樣品是含鍍層的還是同質的，ICP的樣品測量方法都保持不變：從樣品上切下一小塊，然后將其研磨成粉末，如圖2所示。

之后再將粉末溶解到酸溶液中，并用ICP分析儀進行測試。考慮到塊體材料相對鍍層材料的高質量比，

ICP分析結果在很大程度上偏向于塊體材料的元素組成。H與ICP不同，HDXRF是一種偏向于表面的分析技術，HDXRF分析儀的探頭與樣品表面直接接觸，如圖3所示。因此，在測量同質金屬樣品時，ICP和HDXRF的分析結果會十分相似。然而，如果被測對象是含鍍層金屬樣品，HDXRF的分析結果偏向于鍍層材料的組成，而ICP的分析結果則更加偏向塊體材料的組成。

如何識別含鍍層樣品？

用HDXRF可以快速、輕易地判斷樣品是否含有鍍層。首先，使用HDXRF分析儀對金屬樣品的表面進行快速測量。其后，磨光、刮凈或切削樣品以暴露塊體材料。zui后對塊體材料再進行一次測量。如果樣品是同質的，兩次測量的元素組成分析結果將是相同的；如果樣品含鍍層，兩次測量的結果便會有差異。

將含鍍層金屬樣品分析結果的偏差控制在zui小范圍

在對比HDXRF和ICP分析結果時，有一點必須注意：在同一個樣品上使用兩種技術進行測量。原因在于，即使兩個樣品外觀*相同，其元素組成仍然可能存在差異。使用單同一樣品則可以消除這一因素帶來的潛在偏差。此外，在樣品含鍍層的情況下，如果必須將其研磨成粉末用ICP分析，屆時可以用HDXRF對金屬粉末進行測量，得到與ICP相似的結果。

排除鉛的擔憂！

目前所的鍍層金屬中鉛的定量分析方法都建議將樣品整體進行研磨，然后用所得到的濃度結果作為認證依據。然而在有些場景下，鍍層材料中含有高濃度的鉛(超過100ppm)，而基體只含有極少量或*不含鉛。如果鍍層厚度十分薄，那么在ICP的分析報告中，由于其結果偏向于塊體材料，可能會得到鉛“未檢出”(ND)的結果。這對力圖生產無鉛產品的廠商來說是一個重大的隱患。HDXRF作為一種行之有效的手段，可以對含鍍層金屬樣品中的含鉛區域進行定性分析，幫您排除這一擔憂。

在消費品安全和合規檢測應用中，例如兒童用品、玩具、服裝以及電子產品等，XOS提供的高分辨率XRF (HDXRF®) 分析儀能夠無損檢測其中的重金屬和毒性元素，大大縮短了分析時間并降低了系統復雜程度，聚焦激發光技術讓分析區域直徑小至1mm，對小面積和不規則形狀樣品分析準確；多束單色光激發能分別測出涂層和基體中的有毒元素成分，而傳統XRF技術則無法企及。

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