超聲波清洗機是一種濕洗的物理清洗方式，需要有液體介質的使用。不同的清洗對象，需要選擇合適的清洗介質。清洗的工藝有水基清洗、半水溶劑清洗和有機溶劑清洗。除了有機溶劑是一種不溶于水的溶劑，其高效的清潔能力特點，適用在對潔凈度要求比較高的場合，成本也高。水基清洗和半水溶劑清洗都是需要以水為基礎的清洗介質。

    而對水的認識有硬水和軟水兩類之分，水中有鈣與鎂的碳酸鹽、重碳酸鹽、硫酸鹽、氯化物以及硝酸鹽等存在即稱為硬水，將水的硬度（暫時硬度及長久硬度）降低或去除至一定程度的水稱之為軟水。但在工業用水中，通常需要純水，例如在化工、發電、醫藥、食品、電子工業中，各種產品對純水的純度要求就大不相同。

    純水可分為去離子水、純凈水、無熱源水、高純水和超純水五個等級。

    去離子水：主要去除了水中的無機鹽，同時去除部分機械雜質和無機物。

    純凈水：處理對象仍為無機鹽，但對水中剩余的微生物、有機物等較去離子水要求嚴格。

    無熱源水：為細菌內毒素檢查用水，應用于溶解、稀釋內毒素檢測試劑盒標準品。

    高純水：對殘余無機鹽要求極為嚴格，對有機物、微生物及微粒粒徑有嚴格的要求。

    超純水：各項指標接近理想的理論純水的指標，是半導體光刻與清洗的需求。

    純水的純度，主要是指水中各種導電介質（即水中鹽類陽離子、陰離子）、所含溶解氣體、揮發物質和其他非導電介質的含量大小。超聲波清洗機在選擇用水方面具有一定的靈活性，主要取決于清洗的具體需求和待清洗物件的性質。

    水質要求

    除了選擇合適的水源外，還需注意以下水質要求以確保超聲波清洗效果：

    pH值：一般要求水質的pH值在6.5-8.5之間，過高或過低的pH值可能對清洗效果產生負面影響。

    濁度：水質的濁度應低于1 NTU，高濁度的水質會影響清洗效果。

    固體物質：水質中不應含有可見的固體物質，如懸浮物、沉淀物等。

    溶解氣體：水質中的溶解氣體應盡量減少，以避免對清洗過程產生不利影響。

    有機物含量：水質中的有機物質含量應低，高含量的有機物質可能會降低超聲波的清洗效果。

    金屬離子含量：水質中的金屬離子含量要盡量低，以避免對清洗物體產生污染。

    微生物污染：水質中的細菌、病毒等微生物污染要符合衛生標準，以防止污染物在清洗過程中傳播。