超聲波清洗機(jī)在實(shí)驗(yàn)室中應(yīng)用，需要怎么使用呢？這里簡(jiǎn)述一款多功能的超聲波清洗機(jī)。針對(duì)在實(shí)驗(yàn)室中的功能應(yīng)用介紹如下：

    一、超聲波清洗方法

    分兩種清洗方法“直接清洗”和“間接清洗”，每種清洗方法都有其優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)，如不能確定使用哪種清洗方法，可以用兩種方法先清洗幾個(gè)樣品，根據(jù)樣品的清洗效果決定使用哪種方法：

    1、直接清洗

    1)往清洗槽內(nèi)加入清洗溶液，液位高于內(nèi)槽的1/2以上，3/4的位置為宜。

    2)將待清洗的工件放置于清洗籃中并放入清洗槽內(nèi)，也可以將工件懸掛在線纜上浸入溶液中。

    直接清洗的優(yōu)點(diǎn)

    1)操作簡(jiǎn)單

    2)清洗效果明顯

    2、間接清洗

    1)往清洗槽內(nèi)加入市水(自來(lái)水)或者其它劑量的稀釋溶波，液位高于內(nèi)槽的1/2以上，3/4的位置為宜。

    2)將溶劑倒入一個(gè)實(shí)心托盤或者多個(gè)燒杯中。

    3)實(shí)心托盤和燒杯放置于清洗籃中，托盤和燒杯不能和槽體底部直接接觸。

    間接接清洗的優(yōu)點(diǎn)

    1)可以隨時(shí)提出實(shí)心托盤和燒杯進(jìn)行檢查清洗情況。

    2)可以同時(shí)使用一種或多種溶劑，例如:可以一個(gè)燒杯放清洗溶劑，另一個(gè)燒杯放另外的清洗溶劑。

    3)清洗槽內(nèi)的清洗溶液無(wú)需經(jīng)常更換。

    二、實(shí)驗(yàn)室非清洗類應(yīng)用

    可以間接清洗用于樣品前處理，包括溶劑脫氣處理、混勻、促融、乳化、消泡、加速萃取、溶解固體物、分散粉未狀或微米級(jí)納米級(jí)顆粒。

    1納米=0.001微米(1nm=0.001μm)1um相當(dāng)于0.001mm，相當(dāng)于人類頭發(fā)直徑的十分之一

    三、功能表

    1、溫度設(shè)置

    溫度設(shè)置屏顯示“45”和實(shí)際溫度數(shù)。每按“溫度+”鍵一次，設(shè)定溫度加1℃，每按“溫度-”鍵一次，設(shè)定溫度減少1℃。輕按“開關(guān)鍵一次，開啟加熱功能，加熱指示燈亮。當(dāng)溫度達(dá)到設(shè)定溫度時(shí)，顯示屏停止閃爍。兩個(gè)溫度顯示屏處分別顯示所設(shè)置的溫度及實(shí)際已達(dá)到的溫度。在加熱狀態(tài)中，加熱指示燈常亮。

    2、時(shí)間設(shè)置(精確到秒，總時(shí)間9999秒)

    超聲未開啟時(shí)，每按“時(shí)間+”鍵一次，時(shí)間顯示屏增加1秒鐘，每按“時(shí)間-”鍵一次，減少1秒鐘【長(zhǎng)按可快速調(diào)節(jié)時(shí)間長(zhǎng)短，顯示“0000時(shí)為常開模式】，設(shè)定好工作時(shí)間后，輕按“開關(guān)”鍵一次，超聲波工作指示燈亮，機(jī)器按設(shè)置參數(shù)工作。時(shí)間計(jì)時(shí)開始，直到計(jì)時(shí)到達(dá)設(shè)定時(shí)間，自動(dòng)停止工作，工作指示燈滅。注意數(shù)碼系列都具有設(shè)定參數(shù)記憶功能，在功能沒(méi)開啟時(shí)設(shè)定的參數(shù)均能掉電記憶。

    3、頻率/電流顯示窗口

    當(dāng)按下頻率或者電流按鍵時(shí)，顯示狀態(tài)為相應(yīng)頻率或電流，不再交替循環(huán)。右圖頻率燈亮顯示”F80”，代表此時(shí)頻率為80kHz

    4、調(diào)節(jié)功率

    調(diào)節(jié)功率開啟超聲波后，按“功率+”可增大功率，按“功率-”可減小功率，長(zhǎng)按可連續(xù)調(diào)節(jié)，調(diào)節(jié)范圍在小到大幅度。

    5、工作模式(超聲/脈沖/脫氣)的切換

    開啟超聲波之前，分別按（超聲、脈沖、脫氣）按鍵即可進(jìn)入相應(yīng)清洗模式，如果工作過(guò)程中想切換到另外一種清洗模式，需先關(guān)閉超聲，重新選擇想要的模式再打開超聲。

    超聲模式：正常清洗，清洗機(jī)工作在正常狀態(tài)

    脈沖模式：功率在1-100之間循環(huán)擺動(dòng)，清洗沖擊力更強(qiáng)

    脫氣模式：工作6秒停3秒，能快速排出液體中的空氣，提高清洗效率。

    掃頻功能：開啟超聲波之后按“掃頻”進(jìn)入掃頻功能，此功能和其他幾種工作模式疊加使用。

    雙頻、三頻機(jī)頻率的切換

    F1/F2/F3/F4分別代表一種頻率

    對(duì)于雙頻機(jī)每按一次“F”鍵

    就會(huì)切換到另外一種頻率，F(xiàn)1會(huì)直接跳到F2

    對(duì)于三頻機(jī)每按一次“F”鍵

    就會(huì)切換到另外一種頻率，F(xiàn)1會(huì)直接跳到F2，再按一次“F”鍵，F(xiàn)2會(huì)直接跳到F3

    可以在頻率顯示屏那看到目前是什么頻率。

頻率的概述

    目前市場(chǎng)上各個(gè)行業(yè)使用最多的是低、中頻段的超聲波清洗機(jī)，即28~40kHz頻段，其次是高頻68~120KHz和兆赫級(jí)超聲波清洗設(shè)備。

高頻超聲波清洗機(jī)有以下優(yōu)點(diǎn):

    對(duì)于清洗來(lái)講：一是避免對(duì)器件表面清洗帶來(lái)?yè)p傷，二是更加精準(zhǔn)地去除附著在工件表面的微小顆粒污垢。

    對(duì)于實(shí)驗(yàn)來(lái)講：可以使微小顆粒有效地分散、促融、混勻、氣相樣品前處理，幾種溶劑發(fā)生反應(yīng)。

    高頻振力柔和細(xì)膩，穿透力強(qiáng)

    兆赫級(jí)超聲波清洗設(shè)備主要用于半導(dǎo)體行業(yè)，用于對(duì)100~300mm硅片清洗，既可以去除硅片表面0.15um的顆粒，又可以阻止漂洗過(guò)程中顆粒的重新附著，目前兆赫級(jí)超聲波清洗已經(jīng)是大規(guī)模集成電路制造生產(chǎn)過(guò)程中常用的設(shè)備。