介質(zhì)損失角正切值的測量
介質(zhì)功率損耗與介質(zhì)損耗角正切tanδ成正比,因此tanδ是絕緣品質(zhì)的重要指標(biāo),測量tanδ是判斷電氣設(shè)備絕緣狀態(tài)的一種靈敏有效的方法。tanδ能反映絕緣介質(zhì)的整體性缺陷(如整體老化)和小電容被試品中的嚴(yán)重局部性缺陷。由tanδ的變化曲線可以判斷介質(zhì)是否受潮、含有氣泡及老化的程度。
但是測量tanδ不能靈敏地反映大容量電機(jī)、變壓器和電纜絕緣介質(zhì)中的局部性缺陷,這時應(yīng)盡可能將這些設(shè)備拆解成幾個部分,然后分別測量它們的tanδ。當(dāng)絕緣結(jié)構(gòu)由兩部分并聯(lián)組成時,其整體的介質(zhì)損耗為這兩部分之和,即P=P1+P2。可以表示為
由此可得:,C=C1+C2,如果第二部分絕緣結(jié)構(gòu)的體積遠(yuǎn)小于第一部分,則有C2遠(yuǎn)小于C1,C≈C1,于是可得:
由于上式中第二項的系數(shù)C2/C1很小,所以當(dāng)?shù)诙糠纸^緣結(jié)構(gòu)出現(xiàn)缺陷時,tanδ2的增大并不能使總的tanδ明顯增大。例如,在一臺110kV大型變壓器上測得總的tanδ為0.4%時,絕緣指標(biāo)是符合要求的,但是把套管分開單獨(dú)測量時,tanδ達(dá)到了3.4%,絕緣指標(biāo)不符合要求,所以當(dāng)大型設(shè)備絕緣結(jié)構(gòu)由幾個部分共同構(gòu)成時,最好分別測量各部分的tanδ,以便發(fā)現(xiàn)缺陷。
西林電橋的基本原理
西林電橋是一種交流電橋,配以合適的標(biāo)準(zhǔn)電容器,可以在高電壓下測量電氣設(shè)備的電容值和tanδ值。西林電橋的原埋接線如圖4-6所示,有四個橋臂,橋臂1為被試品,Cx、Rx為被試品的電容和電阻;橋臂2為高壓標(biāo)準(zhǔn)電容器CN;橋管3、4在電橋本體內(nèi),分別為可調(diào)無感電阻R3和定值無感電阻R4與可調(diào)電容器C4的并聯(lián)支路,P為交流檢流計。在交流電壓的作用下,調(diào)節(jié)R3和C4使電橋達(dá)到平衡,即通過檢流計P的電流為零,此時有:
式中:
代人式(4-7),經(jīng)過整理得:
由于tanδ?1,所以有:
對于工頻電源,ω=100π,為計算方便,在設(shè)計電橋時取R4=104/πΩ,于是由式(4-8)可得。
取C4的單位為μF,則在數(shù)值上,tanδ=C4。為方便讀數(shù),實(shí)際中將電橋面板上可調(diào)電容器C4的數(shù)值直接標(biāo)記成被試品的tanδ值,例如將C4=0.006μF標(biāo)成 tanδ=0.6%。
橋臂阻抗Z1、Z2比Z3、Z4大得多,所以正常工作時工作電壓主要作用在Z1、Z2上,它們被稱為高壓臂,而Z3、Z4為低壓臂,其作用電壓通常只有幾伏。但如果被試品或標(biāo)準(zhǔn)電容發(fā)生閃絡(luò)或擊穿時,在A、B兩點(diǎn)可能出現(xiàn)高電位,為確保人身和設(shè)備安全,在A、B兩點(diǎn)對地之間各并聯(lián)一個放電電壓約為100~200V的放電管,當(dāng)電橋達(dá)到平衡時,其相量圖如圖4-7所示。
上述內(nèi)容介紹的是西林電橋的正接線,被試品處于高壓側(cè),兩端均對地絕緣,此時橋體處于低壓側(cè),操作安全方便。但是往往現(xiàn)場的電氣設(shè)備外殼一般都接地,因此大多數(shù)情況下只能采用如圖4-8所示的反接線方式,此時檢流計P及調(diào)節(jié)元件R3、C4均處于高壓端,為了確保試驗人員和儀器的安全,必須采取可靠的保護(hù)措施。
影響測量結(jié)果的主要因素
1.外界電場干擾
外界電場干擾包括試驗用高壓電源和試驗現(xiàn)場高壓帶電體(例如變電所內(nèi)運(yùn)行的高壓母線等)所引起的電場干擾,因為在這些高壓電源與電橋各元件及連線之間存在著雜散電容,產(chǎn)生的干擾電流如果流過橋臂就會引起測量誤差。
圖4-9所示為電場干擾示意圖,干擾電流Ig通過雜散電容C0流過被試設(shè)備電容Cx,因此當(dāng)電橋平衡時,所測得的被試品支路的電流Ix由于加上Ig而變成了C。如圖4-10所示,當(dāng)干擾電流Ig大小不變而干擾源的相位發(fā)生變化時,Ig的軌跡是以被試品電流Ix的末端為圓心,以Ig為半徑的圓。特別是當(dāng)干擾源相位變化的結(jié)果使Ig的相量端點(diǎn)落在陰影部分的圓弧上時,tanδ將變?yōu)樨?fù)值,這就意味著該情況下電橋在正常接線下已無法平衡,只有把C4從橋臂4換接到橋臂3與R3并聯(lián)(即將倒相開關(guān)打到一tanδ的位置)才能使電橋平衡,然后按照新的平衡條件計算出tanδ=-ωC4R3。
為避免干擾,最根本的辦法是盡量離開干擾源或者加電場屏蔽,即用金屬屏蔽罩或網(wǎng)將被試品與干擾源隔開,并將屏蔽罩與電橋本體相連,以消除C0的影響。但在現(xiàn)場中往往難以實(shí)現(xiàn)。對于同頻率的干擾,還可以采用移相法或倒相法消除或減小對tanδ的測量誤差。
移相法是工程中常用的消除干擾的有效方法,它主要是利用移相器來改變試驗電源的相位,從而使被試品中的電流Ix與Ig同相或反相。因此測出的是真實(shí)的tanδ 值(即tanδ=ωC4R3)。通常在試驗電源和干擾電流同相和反相兩種情況下分別測兩次tanδ值,然后取其平均值。而正、反相兩次所測得的電流分別為lOA、IOB,因此被試品電容的實(shí)際值也應(yīng)為正、反相兩次測得的平均值。
倒相法是移相法中的一種特殊情況,測量時將電源正接和反接各測一次,得到兩組測量結(jié)果C1、tanδ1和C2、tanδ2,根據(jù)這兩組數(shù)據(jù)計算出電容CX、tanδ。為了便于分析,假設(shè)電源的相位不變,而干擾的相位改變180°,所得到的結(jié)果與干擾相位不變而電源相位改變180°是一致的,由圖4-11可得:
當(dāng)干擾較弱時(即tanδ1與tanδ2相差不大,C1與C2也相近),式(4-12)可簡化為
2. 外界磁場的干擾
如果試驗現(xiàn)場有母線電抗器、通信濾波器和其他漏磁通較大的設(shè)備,則電橋受到磁場的干擾,有可能在電橋閉合環(huán)路內(nèi)引起感應(yīng)電動勢和感應(yīng)環(huán)流,因而造成測量誤差。為此,在設(shè)計電橋時,要盡可能布置緊湊,以縮小環(huán)路,減小磁場干擾,理想情況下是將測量部分屏蔽起來,但是想把整個測量臂都用笨重的鐵磁體屏蔽起來實(shí)際上是不可能做到的。在現(xiàn)場遇到磁干擾時,只能使電橋遠(yuǎn)離磁場或轉(zhuǎn)動電橋方向,以求得干擾最小的方位。若不能做到,還可以改變檢流計的極性開關(guān)進(jìn)行兩次測量,然后用兩次測量的平均值作為測量結(jié)果,以此來減小磁場干擾的影響。
3. 溫度的影響
溫度對tanδ有直接影響,影響的程度隨材料、結(jié)構(gòu)的不同而異。一般情況下,tanδ是隨溫度上升而增加的。現(xiàn)場試驗時,設(shè)備溫度是變化的,為便于比較,應(yīng)將不同溫度下測得的tanδ值換算至20℃。應(yīng)當(dāng)指出,由于被試品真實(shí)的平均溫度很難準(zhǔn)確測定,換算方法也不很準(zhǔn)確,故換算后往往有很大誤差,因此,應(yīng)盡可能在10~30℃的溫度下進(jìn)行測量。
4.試驗電壓的影響
一般來說,良好的絕緣在額定電壓范圍內(nèi),tanδ值幾乎保持不變,僅在電壓很高時才略有增加,如圖4-12中的曲線1所示。當(dāng)絕緣內(nèi)部有缺陷時,當(dāng)所加電壓不足以使氣隙發(fā)生電離時,其tanδ值與電壓的關(guān)系跟良好絕緣相比較沒有差別,但是當(dāng)外加電壓升高到能夠引起氣隙電離或發(fā)生局部放電時,tanδ值開始隨電壓的升高而迅速增大,電壓回落時的電離要比電壓上升時更強(qiáng)一些,因而出現(xiàn)閉環(huán)曲線,如圖4-12中的曲線2所示,曲線3是絕緣受潮的情況,在較低電壓下,tanδ已較大,隨電壓的升高,tanδ繼續(xù)增大,在逐步降壓時,由于介質(zhì)損失的增大已使介質(zhì)發(fā)熱溫度升高,所以tanδ不能與原數(shù)值重合,而以高于升壓時的數(shù)值下降,形成開口環(huán)狀曲線。
5.被試品電容量的影響
對電容量較小的設(shè)備(套管、互感器等),測量tanδ能有效地發(fā)現(xiàn)局部集中性和整體分布性的缺陷。但對電容量較大的設(shè)備(如大中型發(fā)電機(jī)、變壓器、電力電纜、電力電容器等),測量tanδ只能發(fā)現(xiàn)絕緣的整體分布性缺陷,因為局部集中性的缺陷所引起的損失增加僅占總損失的極小部分,因此用測量tanδ的方法來判斷設(shè)備的絕緣狀態(tài)就很不靈敏了,對于可以分解為幾個彼此絕緣的部分的被試品,應(yīng)分別測量其各個部分的tanδ值,這樣能更有效地發(fā)現(xiàn)缺陷。
6. 被試品表面泄漏電流的影響
被試品表面泄漏可能影響反映被試品內(nèi)部絕緣狀況的tanδ值。在被試品的Cx小時需特別注意。為了消除或減小這種影響,測試前應(yīng)將被試品表面擦干凈,必要時可加屏蔽。
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