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磁控離子濺射儀的應(yīng)用場景有哪些?

來源:北京格微儀器有限公司   2024年01月22日 11:15  
  磁控離子濺射儀的應(yīng)用場景包括但不限于以下幾個方面:
  光學(xué)領(lǐng)域:用于制備光學(xué)薄膜,如增透膜、反射膜、濾光片、偏振膜等,以及低輻射玻璃和透明導(dǎo)電玻璃等。這些薄膜和玻璃在平板顯示器件、太陽能電池、傳感器等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。
  裝飾領(lǐng)域:用于制備各種顏色和功能的涂層,如抗刮擦涂層、防腐蝕涂層、耐磨涂層等,以及全反射膜和半透明膜等。這些涂層可以應(yīng)用于手機(jī)外殼、鼠標(biāo)等產(chǎn)品中,以提高產(chǎn)品的外觀和耐久性。
  微電子領(lǐng)域:作為一種非熱涂層技術(shù),用于制備各種功能膜,如具有吸收、透射、反射、折射、偏振等功能的膜。例如,在低溫下沉積氮化硅增透膜以提高太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率。
  半導(dǎo)體制造:用于沉積絕緣層、導(dǎo)電層和金屬接觸層,如高k介電材料、金屬柵極材料、層間介電材料等。
  硬盤制造:用于沉積磁性薄膜,這些薄膜用來存儲數(shù)據(jù)。磁控濺射提供了一種能夠制備高密度、高穩(wěn)定性磁性薄膜的有效方法。
  總之,磁控離子濺射儀的應(yīng)用場景非常廣泛,涉及光學(xué)、裝飾、微電子、半導(dǎo)體制造和硬盤制造等領(lǐng)域。

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