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真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空電阻加熱蒸發，電子槍加熱蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積，離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。
真空鍍膜機就是通過真空狀態下正交磁場使電子轟擊氬氣形成的氬離子再轟擊靶材，靶材離子沉積于工件表面成膜。如此車燈鍍膜機廠家就該考慮與膜層厚度的均勻性有關的有真空狀態、磁場、氬氣這三個方面。真空狀態就需要抽氣系統來控制的，每個抽氣口都要同時開動并力度一致，這樣就可以控制好抽氣的均勻性，如果抽氣不均勻，在真空室內的壓強就不能均勻了，壓強對離子的運動是存在一定的影響的。
(1)真空鍍膜對環境的要求。
加工真空鍍膜工藝襯底(基片)表面的清潔處理很重要。基片進入鍍膜室前均應進行認真的鍍前清潔處理，達到工件去油、去污和脫水的目的。
基片表面污染來自零件在加工、傳輸、包裝過程所粘附的各種粉塵、潤滑油、機油、拋光膏、油脂、汗漬等物;零件表面在潮濕空氣中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的氣體。真空鍍膜廠家這些污物基本上均可采用去油或化學清冼方法將其去掉。
對經過清洗處理的清潔表面，不能在大氣環境中存放，要用封閉容器或保潔柜貯存，以減小灰塵的沾污。用剛氧化的鋁容器貯存玻璃襯底，可使碳氫化合物蒸氣的吸附減至最小。因為這些容器優先吸附碳氫化合物。對于高度不穩定的、對水蒸氣敏感的表面，一般應貯存在真空干燥箱中。
清除鍍膜室內的灰塵，設置清潔度高的工作間，保持室內高度清潔是鍍膜工藝對環境的基本要求。空氣濕度大的地區，除鍍前要對基片、真空室內各部件認真清洗外，還要進行烘烤除氣。要防止油帶入真空室內，注意油擴散泵返油，對加熱功率高的擴散泵必須采取擋油措施。
(2)鍍層與鍍膜的基本原理
A、原材料與基本原理：
原材料都是樹脂、聚合物、鐵氟隆、硅酮、丙烯酸、硅酸鹽等，輔料、配方與量度有所不同。例添加的乳化劑，不同的量相調和，乳化出來的狀態就不一樣，水狀、乳狀、膏狀都可以實現。這些物質經乳化破乳后，部份滲透或形成薄膜。
B、它們的特點和區別：
鍍層：滲透功能好(要視原材料顆粒大小)，表面光滑度更優，對漆面較多“毛細孔”、粗糙、重噴過漆、漆面本身較硬需要增加光亮度的歐美車系漆面比較適用。
鍍膜：而鍍膜產品添加了成膜助劑與固化劑，真空鍍膜廠家使其瞬間成膜，性質相應的發生了改變。
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