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X射線熒光分析儀技術特點介紹：
1、X射線熒光分析儀在測定微量成分時，由于X射線管的連續X射線所產生的散射線會產生較大的背景，致使目標峰的觀測比較困難。為了降低或消除背景和特征譜線等的散射X射線對高靈敏度分析的影響，此熒光分析儀配置了4種可自動切換的濾光片，有效地降低了背景和散射X射線的干擾，調整出*具感度的輻射，進一步提高了S/N的比值，從而可以進行更高靈敏度的微量分析。
2、X射線管的連續X射線所產生的散射線會產生較大的背景，軟件可自動過濾背景對分析結果的干擾，從而能確保對任何塑料樣品的進行快速準確的分析。
3、當某些元素的電子由高等級向低等級越遷時釋放的能量相近，會使此時譜圖的波峰重疊在一起，由此產生了重疊峰。自行開發的軟件自動剝離重疊峰，確保了元素分析的正確性。
4、逃逸峰：由于采用的是Si針半導體探測器，因此當X射線熒光在通過探測器的時候，如果某種元素的含量較高(能量也會相應的較高)，其被Si吸收的概率也就越大。此時，光譜圖中在該元素的能量值減去Si能量值的地方回產生一個峰，此峰即為逃逸峰。
5、在電壓不穩的情況下，可對掃描譜圖的漂移進行自動追蹤補償。
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