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庫侖電解式測厚儀操作步驟(以CMS2 STEP為例)

來源:篤摯儀器(上海)有限公司   2020年11月24日 15:23  

COULOSCOPE MMS 測試儀器是一個功能非常強大而操作比較簡便的儀器。使用時的一個原則是多看顯示屏上的提示,根據它的提示一步一步地去做,這往往事半功倍;其二,要注意軟鍵功能的變化,在不同的程序中有不同的功能;其三,許多功能都是由 MENU 菜單來開啟,隨后皆有提示,可按部就班的進行。 

一、測量界面說明 

屏幕右上角顯示當前時間,下面依次顯示當前應用程式的信息:例如薄可測厚度 thmin=0.30um,電解速度 Deplating rate 2.00um/min,修正系數 Corr.fact:1.00。 中間左半部分是當前應用程式的形象圖解說明,右半部分顯示測量數值。 下面一行顯示當前應用程式的編號和名稱,例如 Appl20:APPL.NO.20,數據總數 N_tot=15。  右邊為相應軟鍵的功能,按 BLOCK RES.可以顯示單個數據組的統計值;按 EVALUATE 可以查看單個或多個數據組的統計值以及 SPC 圖、Σ圖;用上下箭頭可以翻看測量數據。 

二、基本操作 

1.設立應用程式例如 0.5umCr/4umNi/10umCu/Fe: 
MENU→在應用程式欄中選擇新建應用程式(0)→挑一個空的序號,例如 5 即輸入數字 5→ENTER
→用上下箭頭選擇鍍層數 Select number of coatings,例如 3 coatings→確認→選擇測量頂層鍍層 Cr/Ni 的應用程式和電解速度(電解速度根據實際鍍層厚度選擇,一般電解時間控制在 1分鐘左右),按 PAGE 軟鍵可以翻頁,依據本例選 16 即輸入數字 16→確認→選擇墊圈 gasket 的尺寸,例如ф1.5mm(yellow)→確認→選擇測量中間層 Ni/Cu 的應用程式 43,輸入數字 43→確認→選擇墊圈 gasket 的尺寸,注意:同一個應用程式,只能用一種墊圈尺寸,所以還選ф1.5mm(yellow)→確認→選擇測量里層鍍層 Cu/Fe 的應用程式 33,輸入數字 33→確認→選擇墊圈gasket 的尺寸ф1.5mm(yellow)→確認,這時可以看到剛才建立應用程式的信息,請核對是否正確,按 ENTER 鍵可以跳到下一個項目,按數字 2,8 鍵可以切換當前選項→確認→這時可以更改應用程式的名稱,按數字 2,4,6,8 鍵可以選擇所需字符,按 ENTER CHAR 軟鍵可以輸入選定字符→CONFIRM,回到測量狀態,應用程式已建立。

2.校準:CAL 
CAL→修改系數(軟鍵)→將標準片的標稱值輸入小框內→確認→按 START 鍵開始測量→確認→校準完成,返回測量狀態。先把修正系數 Corr.factor 重置為 1.00。
3.應用程式:SELECT APPL 
因為該儀器可測量各種鍍層體系,故針對要測量的鍍層,可使用 APPL.No.鍵來挑選當前要使用的應用程式。 SELECT APPL→選某個要用的應用程式的序號→ENTER→進入該應用程式的測量界面。 
4. 修改應用程式:MODIFY APPL 
測量時,如果儀器停不下來(漏液肯定停不了),可以修改突變電壓。 只能在修改當前應用測試。 MEUN→在應用程式欄中選擇修改應用程式(1)→NEW ΔU 軟鍵→CHANGE 軟鍵→輸入密碼159,并用 ENTER 鍵確認→用數字鍵輸入新的突變電壓值ΔU→用 ENTER 鍵確認,移動光標位置,修改下一層的突變電壓值→修改完成后用 CONFIRM 軟鍵確認,返回測量界面。

三.通過 MENU 菜單鍵進行內部設置的一些操作: 

應用程式欄 
0. 新建應用程式。 
1.修改應用程式: MENU→1→ENTER 
2.刪除應用程式內的數據: MENU→2→ENTER 警告:所有的數據將被刪除→DEL 軟鍵執行刪除,ESCAPE 取消操作→返回測量界面。 
3.復制應用程式 :MENU→3→出現已有的各個 APPL→選 APPL 的序號,例如“8” →8→ENTER→出現 New Application  Number→輸入一個空位,例如:20 →ENTER→在 20 的位置上將出現一個程序 8 的 COPY。 
4.刪除應用程式: 
MENU→4→ENTER→選一個要刪除的程式(例如程式 6,注意,無法刪除當前應用程式)→6→DEL
(軟鍵)→警告→DEL(該程式 6 已被刪除)→回選擇界面,可進行另一次的刪除。如要返回測
量狀態→MEAS OK。

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