對于導電性不好的試樣，我們通常可以選擇離子濺射儀鍍膜處理。通常情況我們選擇鍍金Au膜，如果對分辨率有較高的要求，可以選擇鍍鉑Pt、鉻Cr、銥Ir。如果要對樣品進行嚴格的EDS定量分析，則不能鍍金屬膜，因為金屬膜對X射線有較強的吸收，對定量有較大影響，此時可選用蒸鍍碳膜。

　　現在的鍍膜設備一般都能精確控制膜厚，通常鍍5nm的薄膜就足夠改善導電性，對于有些特殊結構的試樣，比如海綿或泡沫狀，表面不致密，即使鍍較厚的導電層，也難以形成通路。所以我們鍍膜盡量控制在10nm以下，如果鍍10nm的導電膜仍沒有改善導電性，繼續增加鍍膜也沒有意義。一般鍍金的話在10萬倍左右就能看見金顆粒，鍍鉑的話可能需要放大到20萬倍才能看見鉑顆粒，而鍍鉻或者銥則需要放大到接近30萬倍。所以對于導電性不好的試樣來說，可以根據需要選擇不同的鍍膜。離子濺射儀鍍膜之后，由金屬膜代替試樣來發射二次電子，而一般鍍的金、鉑都有較高的二次電子激發率，在鍍膜之后還能增強信號強度和襯度，提升圖片質量。只要鍍膜不會掩蓋試樣的真實細節，*可以進行鍍膜處理，而不用糾結于一定要不鍍膜進行觀察，除非有特別不能鍍膜的要求。當然，對于要求倍數特別高或者嚴格測量的一些觀察要求，則要謹慎鍍膜處理。畢竟在高倍數下，鍍膜會掩蓋一定的形貌，或者使測量產生偏差。

除了不導電樣品需要鍍膜，對于一些導熱性不佳的試樣，有時也需要鍍膜。電子束轟擊試樣時，很多能量轉變成熱能，使得轟擊點溫度升高，升高溫度表達式為

ΔT(K) = 4.8 × VI / kd

其中，V為加速電壓、I為束流、d為電子束直徑，k為試樣熱導率。對于導熱性差的試樣，k較低，ΔT有時能接近1000K，很容易對試樣造成損傷。比如有時候對高分子樣品進行觀察時，會發現樣品在不斷的變化，其實是樣品受到電子束轟擊造成了輻照損傷損傷。而經過離子濺射儀鍍膜后，可以提高熱導率，降低升溫程度，避免樣品受到電子束輻照損傷。