通常情況下，蝕刻液由硫酸和過氧化氫配制而成。任何金屬雜質的引入都將會對IC器件的可靠性產生不利影響，因此需要使用的硫酸具有高純度和高質量。由于具有快速測定各種工藝化學品中超痕量濃度待測元素的能力，電感耦合等離子體質譜儀已成為了質量控制*的分析工具。然而，在傳統的等離子體條件下，往往存在氬離子與基質成分結合產生多原子干擾的情況。
本應用報告使用了NexION 300 ICP-MS去除干擾，從而在使用高溫等離子體的條件下通過一次分析就能夠對H2SO4中全部痕量水平的雜質元素進行測定的能力。
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