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壓電響應力顯微術（PFM） 參考價：面議
利用壓電響應力模式，我們能夠通過針尖對樣品施加高偏壓值（上至220 V，在MFP-3D Infinity上，上至150 V），以便對壓電材料（包括鐵電體和多鐵性...
Ztherm Modulated Thermal Analysis 參考價：面議
Ztherm provides the most sensitive and highest resolution melting and glass tran...
光伏照明 參考價：面議
利用Asylum Research MFP-3D Infinity原子力顯微鏡的光伏(PV)選項，可以實現自定義的底側樣品照明，以實現高分辨率的電學性能表征。光...
WITec Suite FIVE 拉曼控制、測量與分析軟件 參考價：面議
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UHTS 超高通量光譜儀 參考價：面議
WITec 拉曼顯微系統均使用超高光通量光譜儀 (UHTS) 進行操作，UHTS 是專為高速、高分辨率拉曼成像而研發的。UHTS 系列包括六種型號、多種焦長，從...
TruePower 測定功率毫瓦級的全自動激光 參考價：面議
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TrueSurface – 形貌拉曼成像 參考價：面議
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TrueMatch 拉曼光譜數據庫管理軟件 參考價：面議
TrueMatch 是用于存取及開發拉曼光譜數據庫的創新軟件包。借助TrueMatch，用戶不僅可以利用現有拉曼數據庫，檢索出特征光譜所對應的材料信息，還可以創...
TCSPC 時間相關單光子計數 參考價：面議
StrobeLock 是 WITec alpha 300 顯微鏡系列的擴展組件之一，基于時間相關單光子計數（TCSPC）技術來實現樣品熒光壽命測量。在超快脈沖激...
Shasta Series X-ray Tube Power Supply 參考價：面議
Oxford Instruments Shasta series power supply features a robust design that has ...
Scanning Capacitance Microscopy (SCM): Accessory f... 參考價：面議
Scanning Capacitance Microscopy (SCM) is a nanoelectrical imaging technique avai...
樣品定位和掃描平臺 參考價：面議
WITec 提供手動、全自動機械平臺和高精確陶瓷壓電平臺以適用不同的樣品和應用要求。例如：
Sample Mounts 參考價：面議
A variety of sample mounts are available for MFP-3D AFMs in addition to the stan...
RISE – Raman-SEM 聯用顯微鏡 參考價：面議
世界集成的拉曼成像與掃描電子顯微鏡聯用系統RISE 顯微鏡是一款新型聯用顯微鏡，它將 SEM 和共聚焦拉曼成像結合在一起。通過 RISE 顯微鏡，可以將超微結構...
拉曼濾波片組 參考價：面議
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PlasmaPro 80 PECVD 參考價：面議
PlasmaPro 80是一種結構緊湊且使用方便的小型直開式系統，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能確保工藝性能。直開式設計可實現快...
Programming Interface – 測量工作流程定制 參考價：面議
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PlasmaPro 800 RIE 參考價：面議
PlasmaPro 800系列是結構緊湊、且使用方便的直開式系統，該系統為大批量晶圓和300mm晶圓上的反應離子蝕刻（RIE）工藝提供了靈活的解決方案。大尺寸的...
PlasmaPro 80 RIE 參考價：面議
PlasmaPro 80是一種結構緊湊、小尺寸且使用方便的直開式系統，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能確保工藝性能。直開式設計可實...
PlasmaPro 800 PECVD 參考價：面議
The PlasmaPro 800 offers a flexible solution for Plasma Enhanced Chemical Vapour...
PlasmaPro 80 ICPCVD 參考價：面議
PlasmaPro 80是一種結構緊湊且使用方便的小型直開式系統，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能夠確保工藝性能。直開式設計可實現...
PlasmaPro 80 ICP 參考價：面議
PlasmaPro 80 ICP是一種結構緊湊、小型且使用方便的直開式系統，可提供多種刻蝕解決方案。 它易于放置，便于使用，且能夠確保工藝質量。直開式設計允許快...
PlasmaPro 100 PECVD 參考價：面議
設計PECVD工藝模式的目的是要在控制薄膜性能，如折射率、應力、電學特性和濕法化學刻蝕速率的前提下，生產均勻性好且沉積速率高的薄膜。詢價 增加到詢價列表 在詢價...
PlasmaPro 1000 參考價：面議
大面積刻蝕與沉積的量產型解決方案詢價 增加到詢價列表 在詢價列表中查看此產品
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