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光譜橢偏儀4
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更新時間:2024-11-18 21:00:07

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簡要描述:光譜橢偏儀SENDURO#174; 所有的全自動光譜橢偏免除了用戶根據高度和傾斜度手動地對準樣品的麻煩,這對于高精度和可重復的光譜橢偏是必要的。該的自動對準傳感器大大減少了操作誤差,適用于透明和反射樣品,即使在彎曲的樣品上也可實現自動掃描。

光譜橢偏儀

自動對準

光譜橢偏儀SENDURO® 所有的全自動光譜橢偏免除了用戶根據高度和傾斜度手動地對準樣品的麻煩,這對于高精度和可重復的光譜橢偏是必要的。該的自動對準傳感器大大減少了操作誤差,適用于透明和反射樣品,即使在彎曲的樣品上也可實現自動掃描。

操作簡單

配方模式非常適合于生產,工藝監控以及研發的常規應用。該光譜橢偏儀帶有隨機可的配方數據庫,可以根據您的具體需要對其進行修改。

步進掃描分析器

步進掃描分析器SSA是SENTECH光譜橢偏技術的一個特征。分析樣品的總時間只需幾秒鐘。


SENDURO® 可測量透明和反射基片上單層薄膜和層疊膜的折射率和厚度。SENDURO® 自動掃描則實現了較高的樣品速度,化安裝工作量和低的維護成本。該光譜橢偏儀的自動掃描具有預定義或用戶定義的模式、允許廣泛的統計特性和數據圖形顯示。

SENDURO® 是SENTECH自動化,占地面積小,設計緊湊的橢偏儀的代表。測量臺包括橢偏儀光學部件、自動傾斜和高度傳感器、電動樣品臺和控制器電子設備,它們全部緊湊的組合。為了達到更高產量的要求,我們的光譜橢偏儀也提供了片盒站裝載尺寸到300 mm的大晶片。

SENDURO® 以其高樣品測量速度,易于操作和自動對準在工業應用中表現出色。應用范圍從半導體上的介質膜到玻璃上的多層光學涂層。

SENDURO® 優異的光譜橢偏軟件具有配方模式和工程模式。配方模式致力于重復應用程序的簡單執行。密碼控制的用戶登錄允許不同級別的用戶登錄。在交互模式下,橢偏測量通過交互式的,指導性的圖形用戶界面得到增強。此外,可以使用材料數據庫和散射模型修改已經存在的配方或建立新的配方。

Multi sample stage with semitransparent substratesMultilayer analysis by SpectraRay/3Compact housing of semi-automated ellipsometerCassette station for up to 300 mm waferSENDURO® 300 with cassette-to-cassette loadingApplicable measurement tool for R?&?DThickness map of spin coated photoresist / Si (substrate) with step size of 500 µm and 100 µmThickness map of Al2O3 / Si (substrate) according to SEMI standardApplicable for measurement in cleanroom environment





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