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結合橢偏反射
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更新時間:2024-11-18 21:00:07

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簡要描述:結合橢偏反射性能優異的多角度手動角度計和角度精度*的激光橢偏儀允許測量單層薄膜和層疊膜的折射率、消光系數和膜厚。

厚度確定

橢偏測量和反射測量的結合允許通過自動識別循環厚度周期來快速且明確地確定透明膜的厚度。

寬的測量范圍

激光橢偏儀和反射儀的結合將透明薄膜的厚度范圍擴展到25μm,更多地取決于光度計的選項。

擴展激光橢偏儀的極限

結合橢偏反射性能優異的多角度手動角度計和角度精度*的激光橢偏儀允許測量單層薄膜和層疊膜的折射率、消光系數和膜厚。


SE 500adv結合了橢偏儀和反射儀,了測量透明膜層厚度的模糊性。它把可測量的厚度擴展到25m,因此SE 500adv擴展了標準激光橢偏儀SE 400adv的能力,特別適用于分析較厚的介質膜、有機材料、光阻、硅和多晶硅薄膜。

SE 500adv可作為激光橢偏儀、膜厚探針和CER橢偏儀使用。因此,它提供了標準激光橢偏儀從未達到的靈活性。作為橢偏儀,可以進行單角度和多角度測量。當用作膜厚探針時,在正常入射下測量透明或弱吸收膜的厚度。

SE 500adv結合橢偏反射中的橢偏測量和反射測量的組合包括橢圓測量光學部件、角度計、組合反射測量頭和自動準直透鏡、樣品臺、氦氖激光光源、激光檢測單元和光度計。

SE 500adv的選項支持在微電子、微系統技術、顯示技術、光伏、化學等領域的應用。


X-y-mapping stageThickness map of spin coated photoresist / Si (substrate) with step size of 500 µm and 100 µm11SE 500-300 with manual stage and autofocusCombined laser ellipsometer with reflectometer


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