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當(dāng)前位置：深圳秋山工業(yè)設(shè)備有限公司>>光學(xué)顯微鏡>>顯微鏡>> UTA系列日本armssystem無(wú)掩模曝光高分辨率顯微鏡
產(chǎn)品型號(hào)UTA系列
品 牌其他品牌
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
所 在 地深圳市
更新時(shí)間：2024-10-08 11:42:23瀏覽次數(shù)：230次
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日本saitohk低倍率計(jì)算機(jī)觀察設(shè)備顯微鏡
日本saitohk變焦PC顯微鏡觀察設(shè)備操作簡(jiǎn)單
| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,能源,電子,電氣,綜合 |
|---|
日本armssystem無(wú)掩模曝光高分辨率顯微鏡 UTA系列 特點(diǎn)介紹
我們的“無(wú)掩模曝光設(shè)備/顯微鏡 LED 曝光裝置 UTA 系列"被用于主要由名古屋大學(xué)的 Minoru Osada 教授進(jìn)行的一些研究。
?顯微鏡LED曝光裝置UTA系列是無(wú)需掩模的光刻用圖案投影曝光裝置。（無(wú)掩模曝光設(shè)備）
?使用金相顯微鏡和帶LED光源的DLP投影儀，將分辨率為數(shù)微米的任意圖案投影到涂有抗蝕劑的基板上并進(jìn)行曝光。
- 可以在計(jì)算機(jī)上自由創(chuàng)建圖案。
?它比電子束光刻便宜得多，也更簡(jiǎn)單，因?yàn)殡姌O可以在大氣中形成在各種尺寸和形狀的層狀材料的單晶薄片上。無(wú)需創(chuàng)建昂貴的電極圖案掩模。（如果幾微米的分辨率就足夠了）
日本armssystem無(wú)掩模曝光高分辨率顯微鏡 UTA系列 規(guī)格參數(shù)
薄膜 FET 和霍爾效應(yīng)測(cè)量樣品的電極形成
形成電極以去除石墨烯/鉬原石上的薄片并評(píng)估原石的特性
研發(fā)應(yīng)用模式形成
由于它結(jié)合了顯微鏡和 DLP，因此可以比現(xiàn)有的無(wú)掩模曝光設(shè)備以更低的成本構(gòu)建系統(tǒng)。
易于使用的專用軟件可讓您輕松創(chuàng)建曝光圖案
物鏡的放大倍率可以實(shí)現(xiàn)從微小圖案到大范圍的批量曝光。
也可以將其連接到您自己的金相顯微鏡上（根據(jù)條件）
分辨率也可以達(dá)到數(shù)微米（數(shù)微米圖案成型）。
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