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日本進(jìn)口musashino精密刀片切割機(jī)鐵基材料 MPC-200e精密鋸片鋸MPC系列是一款精密切割機(jī)，通過(guò)步進(jìn)進(jìn)給功能和使用平衡配重的切割系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)樣品友好切割...
日本st-flow高精度分配各種粘度液體分配器 DP-N系列能夠穩(wěn)定輸送和高精度分配各種粘度的液體。■ 產(chǎn)品特點(diǎn)□ 各種交通可以高精度地應(yīng)用各種低粘度到高粘度的...
日本MIKASA晶圓表面涂抹設(shè)備半導(dǎo)體用涂布機(jī) MS-B200 / MS-B300產(chǎn)品采用AC伺服電機(jī)且無(wú)刷，因此在防止?jié)崈羰椅廴痉矫婢哂谐錾男阅埽⑶覝p少電...
日本MIKASA小型高性能旋涂機(jī)涂布機(jī)潔凈室用 MS-B100 / MS-B150產(chǎn)品采用AC伺服電機(jī)且無(wú)刷，因此在防止?jié)崈羰椅廴痉矫婢哂谐錾男阅埽⑶覝p少電...
日本Hisol等離子清洗機(jī)去除有機(jī)污染物等 G1000G1000是一種利用 氣體等離子體的蝕刻作用，在低壓環(huán)境下對(duì)被清洗物體表面進(jìn)行清洗的系統(tǒng)。通過(guò)根據(jù)用途選擇...
日本Hisol離子濺射設(shè)備表面涂覆抗靜電涂層 G20該臺(tái)式濺射設(shè)備非常適合在樣品表面涂覆抗靜電涂層，例如對(duì)非導(dǎo)電樣品進(jìn)行 SEM 觀察時(shí)。
kelk凱爾克電子冷卻除濕器環(huán)境污染分析裝置 DH-209C-1-R電子冷卻除濕器對(duì)于去除環(huán)境污染氣體分析儀樣氣采樣部分或保持恒定量的水分至關(guān)重要。
凱爾克kelk化學(xué)溶液恒溫循環(huán)器控制器半導(dǎo)體 RX-610-R濕法工藝的直接循環(huán)化學(xué)恒溫裝置，具有在線冷卻和加熱裝置，不會(huì)造成金屬離子洗脫和污染。
日本Junkosha脫氣模組高性能分析高純度流體 MBS-C-1000在分析化學(xué)領(lǐng)域，對(duì)提高準(zhǔn)確性的需求不斷增加。使用復(fù)雜的分析設(shè)備分析高純度流體需要使用高性能...
Adwill-Global全自動(dòng)多功能晶圓貼合研磨機(jī) RAD-2510F/12Sa適用于超薄晶圓本多功能晶圓貼合機(jī)采用單機(jī)系統(tǒng)，適用于超薄晶圓制造。背面研磨工藝...
Adwill-Global全自動(dòng)研磨用保護(hù)膠帶貼合機(jī) RAD-3520F/12擴(kuò)充暢銷(xiāo)機(jī)型“RAD-3510F/12"的功能，實(shí)現(xiàn)高性能、省空間化。1. 標(biāo)準(zhǔn)的...
力奇Nilfisk熱水高壓清洗機(jī)用于多個(gè)領(lǐng)域 MH6P-210/1100 FANilfisk 商用熱水高壓清洗機(jī) MH6P-210/1100 FA 是一款熱水高...
Nilfisk力奇高壓清洗機(jī)用于農(nóng)業(yè)建筑工地等 MC 5M-170/980Nilfisk 商用高壓清洗機(jī) MC 5M 是一款中檔冷水高壓清洗機(jī)，在同類(lèi)產(chǎn)品中擁有...
日本gs-clean自動(dòng)式鞋底干式清洗機(jī)精密設(shè)備 GS-313D/GS-414D干式自動(dòng)售貨機(jī)僅使用刷子進(jìn)行干洗。非常適合沙子和灰塵等輕質(zhì)污垢、面粉等遇水變質(zhì)的...
日本okasugi去毛刺研磨機(jī)精細(xì)加工多種材料 OSES-30-A用于無(wú)邊皮革加工去毛刺、R面精加工、褶皺薄板等的
千代田CHIYODA紫外UV清洗機(jī)用于顯示器等 CHIYODA SKB2001N-01/SKB2003N-01利用紫外線將有機(jī)污染物氧化并轉(zhuǎn)化為揮發(fā)性物質(zhì)，可有...
日本CHIYODA紫外線清洗裝置用于有機(jī)EL等 CHIYODA SKB401Y-01/SKB1101N-01利用紫外線將有機(jī)污染物氧化并轉(zhuǎn)化為揮發(fā)性物質(zhì)，可有效...
日本techvision紫外線臭氧UV清洗裝置高精度 UV-208/UV-312所謂UV(紫外線)臭氧清洗裝置,是指照射特定波長(zhǎng)的紫外線,生成臭氧(O3),利用...
日本進(jìn)口techvision全自動(dòng)光掩膜清洗裝置 TWC-200A全自動(dòng)光掩膜清洗裝置《TWC-200A》是一下子去除附著在掩模上的1μm以上的顆粒和抗蝕劑殘?jiān)?..
日本techvision光掩膜清洗裝置用于半導(dǎo)體等 TWC-302光掩模的清潔化是提高產(chǎn)品成品率的必要條件！
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