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天津瑞利光電科技有限公司
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美國Universal Laser Systems激光加工系統

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具體成交價以合同協議為準

產品型號

品       牌其他品牌

廠商性質經銷商

所  在  地天津市

更新時間:2024-08-08 16:43:12瀏覽次數:106次

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產地類別 進口 價格區間 面議
應用領域 電子,交通,汽車,電氣 組成要素 自由電子激光器
ULTRA X6000 是一種高精度激光材料加工系統,專為制造、原型開發和研發環境中要求苛刻的復雜應用而設計。與當今的其他方法相比,該系統具有更高的準確度、可重復性和效率,并提供一系列新型的功能和能力,可在廣泛的材料范圍內實現高質量。

產品名稱: Universal Laser Systems激光加工系統ULTRA X6000

產品型號: ULTRA X6000

產品介紹: ULTRA X6000 是一種高精度激光材料加工系統,專為制造、原型開發和研發環境中要求苛刻的復雜應用而設計。與當今的其他方法相比,該系統具有更高的準確度、可重復性和效率,并提供一系列新型的功能和能力,可在廣泛的材料范圍內實現高質量。ULTRA X6000 激光系統可在一個系統中解決幾乎所有的材料難題。ULTRA X6000 激光系統支持三種不同的激光波長(10.6、9.3 和 1.06 μm),激光功率從 10 瓦到 300 瓦 CO2 和 50 瓦光纖不等。此外,利用獲得許可的 Multi-Wave Hybrid技術,可以將多個不同波長和功率的激光束組合成一個同軸混合激光束。這種 功能使可用的激光能量與材料的吸收特性相匹配,從而獲得穩定的效果。利用 Multi-Wave Hybrid技術,您可以選擇合適的激光波長和功率,在一個生產周期內加工單一材料或多種同質材料。同時組合多個波長和功率級別,有效加工包括金屬在內的復合材料。準確加工多層材料的目標層,而不影響其他材料層。

性能特點: 

36 x 24 英寸(914 mm x 610 mm)材料處理區

支持厚度達 12 英寸(305 mm)的材料

功率配置可達 300 瓦 CO2 和 50 瓦光纖

支持三種激光器 - (2)個 CO2 激光源(10-150 瓦)和(1)個安裝的光纖激光源

相機注冊

自動化接口

獲得許可的多波混合技術Multi-Wave Hybrid Technology

獲得許可的可控功率密度光學器件

獨立于材料的準確自動對焦

可編程氣體輔助

激光系統管理器控制軟件

智能材料數據庫

21 英寸(533 mm)觸摸屏控制面板

快速重新配置技術

提供獲得許可的 SuperSpeed 技術

提供 UAC 4000 空氣過濾系統

可選功能與配件: 

可提供滅火裝置

可選激光等級4 級模塊轉換為 4 級

技術參數: 

產地:美國

材料處理包絡面(X、Y、Z):36 x 24 x 12 英寸(914 x 610 x 305 mm)

Min可尋址光束定位:2 μm (.00008 英寸)光束定位可尋址性

機械光束定位重復性:± 10 μm(.00039 英寸)重復性

Max定位速度:175 英寸/秒(4445 mm/秒)

Max有效光柵處理速度:相當于超過 300 英寸/秒(相當于超過 7620 mm/秒)

Max有效矢量處理速度:相當于超過 40 英寸/秒(相當于超過 1016 mm/秒)

多激光器支持:2個 CO2 激光源和1個安裝的光纖激光源;支持快速重新配置 CO2 激光器

可提供的波長/激光源:

10.6 μm CO2 10、30、40、50、60、75 和 150 瓦激光源;

9.3 μm CO2 10、30、50 和 75 瓦激光源 ;

1.06 μm 光纖:50 瓦激光源

Max激光功率:300 瓦 CO2,50 瓦光纖

重量:550 磅(250 kg)

電源要求:220V-240V/20A(300 瓦配置需要大功率套件和 30A 電源)

排氣要求:智能空氣過濾(UAC 4000)或外部排氣鼓風機

6 英寸 WG 靜壓下能夠達到 >700 CFM。WG 靜壓下大于 700 CFM(1.5 kPa 時為 1190 立方米/小時)

計算機要求:不需要;包括集成式 21 "Touch Screen 控制面板

激光等級:材料加工激光器為 1 級;由于使用紅色激光指示器,總體等級為 2 級

產品尺寸: 

系統外部尺寸

寬度:63.09 英寸(1603 mm),帶折疊式控制面板;87.75 英寸(2229 mm),控制面板展開時

深度:50.07 英寸(1272 mm)

高度: 47.67 英寸(1219 mm)至外殼頂部;74.42 英寸(1890 mm)至燈塔頂部

排氣口:6 英寸(152 mm)

產品應用: 

專為制造、原型開發和研發環境中要求苛刻的復雜應用而設計

 


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