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紫外光清洗的工作原理

紫外光清洗技術是利用有機化合物的光敏氧化作用達到去除黏附在材料表面上的有機物質，經過光清洗后的材料表面可以達到“原子清潔度"。更詳盡的講：UV光源發射波長為185nm和254nm的光波，具有很高的能量,當這些光子作用到被清洗物體表面時,由于大多數碳氫化合物對185nm波長的紫外光具有較強的吸收能力,并在吸收185nm波長的紫外光的能量后分解成離子、游離態原子、受激分子和中子，這就是所謂光敏作用?？諝庵械难鯕夥肿釉谖樟?85nm波長的紫外光后也會產生臭氧和原子氧。臭氧對254nm波長的紫外光同樣具有強烈的吸收作用,臭氧又分解為原子氧和氧氣。其中原子氧是極活潑的,在它作用下,物體表面上的碳和碳氫化合物的分解物可化合成可揮發的氣體：二氧化碳和水蒸氣等逸出表面，從而清除了黏附在物體表面上的碳和有機污染物。清洗時，使基板治濕性向上。玻璃基板是以滾輪方式輸送，上方裝置低壓水銀燈產生紫外線照射。玻璃基板所累積紫外線能量愈多，其表面水接觸愈小，成反比關系。一般STN-LCD制作過程中，需求的玻璃基板累積紫外線能量為300nj/cm2(253.7nm)以上。而彩STN-LCD及彩色濾光片制作過程中，要求的玻璃基板累積紫外線能量600mj/cm2(253.7nm)。

適用范圍

液晶顯示器件、觸摸屏、半導體硅芯片、集成電路、高精度印制電路板、光學器件、石英晶體、密封技術、帶氧化膜的金屬材料主要材料：ITO玻璃、光學玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、硅芯片和帶有氧化膜的金屬等進行精密清洗處理?？梢匀コ酃福河袡C性污垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹脂添加劑及聚酰亞胺、石蠟、松香、潤滑油、殘余的光刻膠等使用紫外線清洗時要注意以下幾個方面：

（1） 污垢中的無極成分或處理后的灰分會殘留在物體表面，因此需要采用相應的辦法進一步清除，如加裝真空除塵或與超聲波干洗配套使用。（2）處理時，當清洗對象表面與照射光源距離稍遠時，產生的臭氧會自動分解失去作用，一定要注意清洗表面與光源的距離，也就是注意平臺或傳送帶上工件的高度或厚度。

（3）這種處理方法要求紫外線能透過清洗對象表面，對有立體結構的清洗對象不太適合，只能清洗表面結構的物體。

（4）由于需防止臭氧擴散對人體造成損害，需要在封閉裝置中進行清洗。

（5）由于臭氧是通過氧化反應去除污垢的，所以容易被氧化的表面不能用這種方法處理。