目錄:蘇州華維納納米科技有限公司>>LDW-P納米激光直寫系統>> 新型納米激光直寫系統
| 應用領域 | 化工 | 激光波長 | 405nm |
|---|---|---|---|
| 特征尺寸 | 100nm | 激光功率 | 120mW至300mW（可選） |
| 刻寫范圍 | 50mm×50mm至100mm×100mm（可選） |
蘇州華維納納米科技有限公司于2011年注冊成立的高科技創新型公司，公司由歸國和國內的高層次人才組成，公司設有博士后流動站。
新型納米激光直寫系統采用全新的技術路徑提高加工分辨率，一舉突破突衍射極限的限制，成功實現納米尺度加工；突破了目前激光直寫僅能用于有機光刻膠的現狀，可以廣泛應用于各種受體材料，極大地擴展了激光直寫設備的應用范圍。
新一代激光直寫光刻設備特點
具有核心知識產權的國產激光直寫設備
具有超越衍射極限的加工能力
新型納米激光直寫系統可適用于多種受體材料
本公司可根據客戶需要提供定制設備并提供各種微納結構樣品的加工服務。
部分加工樣品如下圖
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