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本裝置為高真空蒸鍍設備，因此可對應搭載JA Wollam公司制造的橢偏儀而開發(fā)設計的蒸鍍機。真空蒸鍍過程中，配設橢偏儀以取得相關物性物理資訊。（以下的規(guī)格是記載除橢偏儀以外的高真空蒸鍍機規(guī)格）

本蒸發(fā)鍍膜裝置搭載的是JA Wollam公司的橢偏儀，真空腔大小：280x410x290mm，蒸發(fā)源：2個，基板尺寸：80x80mm

鍍膜機可以按需定制，可蒸鍍金屬，有機物等。公司與日本常陽工學株式會社以及ALS公司合作，定制OLED，有機光伏等方向的實驗線，小試線，中試線，以及各類真空生產線。相關真空技術源自佳能Tokki的原工程師團隊，設備精密穩(wěn)定可靠。

Reference:

D.Yokoyama, K.Nakayama, T.Otani, and J.Kido: Adv.Mater. 24,6368(2012)