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浙江泰林生物技術(shù)股份有限公司
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HTY-DI1000CTOC總有機(jī)碳分析儀
| 參考價: | 面議 |
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)- HTY-DI1000C 產(chǎn)品型號
- 泰林生物 品牌
- 生產(chǎn)商 廠商性質(zhì)
- 杭州市 所在地
訪問次數(shù)：6402更新時間：2021-11-28 16:08:06
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- 聯(lián)系人：
- 泰林
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- 地址：
- 杭州市濱江區(qū)南環(huán)路2930號泰林大廈
- 網(wǎng)址：
- www.tailingood.com
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產(chǎn)品簡介
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 檢測原理 | 其他 | 氧化方法 | 紫外光氧化 |
| 儀器種類 | 在線型 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
產(chǎn)品介紹
HTY-DI1000C型TOC總有機(jī)碳分析儀是浙江泰林生物技術(shù)股份有限公司獨立研制的專li產(chǎn)品實驗室TOC，用于測定水樣中總有機(jī)碳的濃度，具有高靈敏度和精確度。
可以檢測TOC濃度從0.001mg/L到1.000mg/L的水樣。本產(chǎn)品操作簡單，維護(hù)費用低，無需添加化學(xué)試劑。
HTY-DI1000C型TOC總有機(jī)碳分析儀技術(shù)參數(shù)：
電 源：220V±22V
電源頻率：50Hz±1Hz
額定功率：100W
基本尺寸：390mm×194mm×187mm
檢測極限：0.001mg/L
zui大允許誤差：±5%
檢測范圍：0.001mg/L～1.000mg/L
分析時間：4min
響應(yīng)時間：15 min以內(nèi)
樣品溫度：1~95℃
環(huán)境溫度：10~40℃ 溫度變化在±5℃/d以內(nèi)
內(nèi)部樣品流速：0.5 mL/min
相對濕度：≤ 85%
重復(fù)性誤差：≤ 3%
零點漂移：±5%
量程漂移：±5%
主要特點：
1. 采用紫外光催化氧化法，不需催化劑和載氣；
2. 自主研發(fā)設(shè)計了二氧化鈦催化涂層螺旋管，特別適用于制藥用水測定有機(jī)碳含量；
3. 具有超出設(shè)定上限值時蜂鳴報警功能，保護(hù)儀器，防止誤操作；
4. 可選配在線檢測裝置(在線與離線模式可自由切換)，滿足在線監(jiān)測需求；
5. 可選配自動取樣裝置；
6. 符合CP2010版“總有機(jī)碳檢查法"及USP32-643章 系統(tǒng)適應(yīng)性要求；
7. 不需要添加酸試劑、氧化劑和任何氣體，無需附加日常維護(hù)費。
8. 操作簡單、快捷、可靠。使用者無需專業(yè)知識和專門學(xué)習(xí)。
9. 針對TOC含量1.000mg/L以下的去離子水的檢測而設(shè)計。
10. 超大的存儲器能自動存儲zui近12個月連續(xù)檢測的數(shù)據(jù)，可以查詢?nèi)我庖惶斓臋z測記錄，并能打印檢測結(jié)果。
11. 檢測速度快，一次檢測分析時間不超過4分鐘。
12. 體積小、重量輕、耗能少、攜帶方便。
13. 具有自動的上限報警輸出，超出設(shè)定的檢測結(jié)果時可以提醒操作者。
14. 易于按照USP<643>和EP<2.2.44>以及中國藥典附錄Ⅷ R所要求的TOC檢測方法進(jìn)行系統(tǒng)適用性試驗。
15. 超大的320′234的點陣真彩顯示器以及人性化的界面，具有RS232數(shù)據(jù)接口和打印機(jī)接口。
16. 通過CMC認(rèn)證，浙制01010406號-2。
工作原理：
HTY-DI1000C型總有機(jī)碳分析儀通過樣品中的有機(jī)物在紫外線（UV）的作用下被氧化成二氧化碳，二氧化碳的測定采用了電導(dǎo)率檢測技術(shù)。通過測定未經(jīng)氧化的樣品的總無機(jī)碳（TIC或IC）濃度，和經(jīng)氧化后得到的樣品的總碳（TC）濃度來計算總有機(jī)碳濃度。總有機(jī)碳濃度即總碳濃度與總無機(jī)碳濃度之間的差值：TOC = TC–TIC。
應(yīng)用領(lǐng)域：
HTY-DI1000C型toc分析儀可用于檢測制藥工業(yè)中純化水、注射用水和去離子水中總有機(jī)碳的濃度；也可用于半導(dǎo)體行業(yè)、電廠、科研單位、實驗室等超純水TOC的檢測，在制藥領(lǐng)域和生物化學(xué)領(lǐng)域清潔驗證過程中，可用于驗證清潔效果。
該儀器具有在線檢測功能（在線檢測裝置需另選配），可以在線監(jiān)測制藥工業(yè)的制水系統(tǒng)、半導(dǎo)體工業(yè)的超純水制備系統(tǒng)和晶片工藝過程、電廠去離子水制備過程等。
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