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無錫冠亞恒溫制冷技術有限公司
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反應釜加熱控溫機 化工用冷熱一體機

參   考   價: 150777

訂  貨  量: ≥1 臺

具體成交價以合同協議為準

產品型號SUNDIZ4-3

品       牌冠亞制冷

廠商性質生產商

所  在  地無錫市

更新時間:2024-10-17 10:57:45瀏覽次數:183次

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產地類別 國產 價格區間 10萬-20萬
應用領域 化工,生物產業,石油,制藥,綜合
【無錫冠亞】反應釜加熱控溫機 化工用冷熱一體機,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫藥工業用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統。

反應釜加熱控溫機 化工用冷熱一體機


無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制







型號

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介質溫度范圍

-10℃~+200℃

控制系統

前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

溫控模式選擇

物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

溫差控制

設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

程序編輯

可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

通信協議

MODBUS RTU 協議  RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

溫度反饋

設備導熱介質 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度

導熱介質溫控精度

±0.5℃

反應物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量壓力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

壓縮機

海立

艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

膨脹閥

丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

蒸發器

丹佛斯/高力板式換熱器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

安全防護

具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

密閉循環系統

整個系統為全密閉系統,高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

溫度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(風) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正壓防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常規重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/


 

 

 

 

  在現代半導體行業中,冷熱循環試驗機通過準確控制溫度環境,為半導體制造過程中的多個關鍵環節提供必要的溫度保障,從而確保產品的質量和性能。反應釜加熱控溫機 化工用冷熱一體機

  一、冷熱循環試驗機的基本工作原理

  冷熱循環試驗機是一種集制冷和加熱功能于一體的設備,能夠提供穩定的高溫和低溫環境,滿足半導體制造過程中復雜多變的溫度需求,為半導體器件的研發、生產和測試提供了可靠的保障。

  二、冷熱循環試驗機在半導體制程中的應用

  1. 薄膜生長

  在半導體制程中,冷熱循環試驗機能夠為薄膜生長提供所需的準確溫度環境,促進材料的化學反應,從而生長出高質量的薄膜。通過準確控制溫度,可以優化薄膜的生長條件,提高薄膜的均勻性和致密性,進而提升半導體器件的整體性能。

  2. 熱處理

  半導體材料在制程過程中需要進行多種熱處理,如退火、氧化等。這些過程對溫度的要求非常嚴格,稍有偏差就可能導致材料性能下降或器件失效。冷熱循環試驗機能夠提供穩定的溫度環境,確保熱處理過程的順利進行。例如,在氧化過程中,通過準確控制溫度,可以形成致密的二氧化硅層,有效保護晶圓表面,防止化學雜質和漏電流的影響。

  3. 摻雜工藝

  摻雜是半導體制程中的環節之一,通過向材料中引入特定的雜質來改變其電學性質。冷熱循環試驗機能夠為摻雜工藝提供準確的溫度控制,確保雜質能夠均勻地分布在材料中,從而獲得理想的摻雜效果。準確的溫度控制可以避免摻雜不均勻導致的器件性能波動,提高產品的穩定性和可靠性。反應釜加熱控溫機 化工用冷熱一體機

  4. 清洗與刻蝕

  在半導體制程中,清洗和刻蝕是去除表面污物和不需要材料的步驟。冷熱循環試驗機能夠為這些工藝提供適當的溫度環境,提高清洗和刻蝕的效果。適當的溫度可以促進清洗劑和刻蝕劑的化學反應,加速污物和不需要材料的去除,從而保證半導體器件的清潔度和精度。


反應釜加熱控溫機 化工用冷熱一體機



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