當前位置:無錫冠亞恒溫制冷技術有限公司>>制冷加熱控溫系統>>制冷加熱循環機>> SUNDI-275中試加熱制冷設備 工藝過程密閉循環恒溫器
產地類別 | 國產 | 價格區間 | 10萬-20萬 |
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應用領域 | 化工,生物產業,石油,制藥,綜合 |
無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:
高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、
雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;
小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、
組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制
型號 | SUNDI-125 SUNDI-125W | SUNDI-135 SUNDI-135W | SUNDI-155 SUNDI-155W | SUNDI-175 SUNDI-175W | SUNDI-1A10 SUNDI-1A10W | SUNDI-1A15 SUNDI-1A15W | |||||||
介質溫度范圍 | -10℃~+200℃ | ||||||||||||
控制系統 | 前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器 | ||||||||||||
溫控模式選擇 | 物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇 | ||||||||||||
溫差控制 | 設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定 | ||||||||||||
程序編輯 | 可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟 | ||||||||||||
通信協議 | MODBUS RTU 協議 RS 485接口 | ||||||||||||
外接入溫度反饋 | PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100) | ||||||||||||
溫度反饋 | 設備導熱介質 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度 | ||||||||||||
導熱介質溫控精度 | ±0.5℃ | ||||||||||||
反應物料溫控精度 | ±1℃ | ||||||||||||
加熱功率 kW | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | |||||||
制冷量 kW | 200℃ | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | ||||||
20℃ | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | |||||||
-5℃ | 1.5 | 2.1 | 3.3 | 4.2 | 6 | 9 | |||||||
流量壓力 max L/min bar | 20 | 35 | 35 | 50 | 50 | 75 | |||||||
2 | 2 | 2 | 2 | 2 | 2.5 | ||||||||
壓縮機 | 海立 | 艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機 | |||||||||||
膨脹閥 | 丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥 | ||||||||||||
蒸發器 | 丹佛斯/高力板式換熱器 | ||||||||||||
操作面板 | 7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄 | ||||||||||||
安全防護 | 具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。 | ||||||||||||
密閉循環系統 | 整個系統為全密閉系統,高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。 | ||||||||||||
制冷劑 | R-404A/R507C | ||||||||||||
接口尺寸 | G1/2 | G3/4 | G3/4 | G1 | G1 | G1 | |||||||
水冷型 W 溫度 20度 | 600L/H 1.5bar~4bar G3/8 | 800L/H 1.5bar~4bar G1/2 | 1000L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 1200L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 1600L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 2000L/H 1.5bar~4bar G3/4 | |||||||
外型尺寸(水)cm | 45*65*120 | 50*85*130 | 50*85*130 | 55*100*175 | 55*100*175 | 70*100*175 | |||||||
外形尺寸 (風)cm | 45*65*120 | 50*85*130 | 55*100*175 | 55*100*175 | 70*100*175 | 70*100*175 | |||||||
隔爆尺寸(風) cm | 45*110*130 | 45*110*130 | 45*110*130 | 55*120*170 | 55*120*170 | 55*120*170 | |||||||
正壓防爆(水)cm | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 120*110*195 | |||||||
常規重量kg | 115 | 165 | 185 | 235 | 280 | 300 | |||||||
電源 380V 50HZ | AC 220V 50HZ 3.6kW | 5.6kW | 7.5kW | 10kW | 13kW | 20kW | |||||||
選配風冷尺寸cm | / | 50*68*145 | 50*68*145 | 50*68*145 | / | / |
雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制系統是一種應用于化學、生物工程、制藥、新材料研發等領域的關鍵設備,主要用于準確控制雙層反應釜內物料的溫度,確保反應在設定的溫度范圍內穩定進行。
雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制系統通常由內外雙層結構的反應釜、加熱/冷卻單元、溫度傳感器、智能控制器等組成。
1. 雙層結構:雙層反應釜的內層用來裝載反應物料,外層則是環繞內層的夾套,通過夾套中的加熱或冷卻介質來控制內層物料的溫度。
2. 動態恒溫控制:冠亞制冷動態恒溫控制系統可以根據設定的溫度目標和物料吸熱或放熱的情況,自動調節加熱或冷卻介質的流量和溫度,確保反應釜內溫度始終保持在適合范圍內。
3. 加熱與冷卻單元:加熱單元可以采用電加熱、蒸汽加熱等方式,冷卻單元則可通過冷卻水循環、制冷劑循環等途徑實現。系統可根據需要迅速切換加熱和冷卻模式,適應反應過程中溫度變化的需求。
4. 溫度傳感器與控制器:反應釜內部通常設有多個溫度傳感器,實時監測釜內不同位置的溫度。控制器基于這些溫度信號,運用PID或其他控制算法,準確調控加熱和冷卻單元的工作狀態,實現快速響應和準確控溫。
5. 應用實例:冠亞制冷雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制系統在生物酶催化反應、精細化學品合成、藥物結晶、新材料合成等各種對溫度控制要求苛刻的實驗和生產環節中都有廣泛的應用。例如,在聚合反應中,恒定的溫度可以確保反應的穩定性和產物的均一性;在藥物結晶過程中,準確的溫度控制有助于提高晶體純度和收率。
中試加熱制冷設備 工藝過程密閉循環恒溫器
中試加熱制冷設備 工藝過程密閉循環恒溫器
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