應(yīng)用舉例：

研究課題：細(xì)胞力介導(dǎo)基質(zhì)重組，形成多細(xì)胞網(wǎng)絡(luò)

剪切力測(cè)試：

MicroTester  G2系統(tǒng)可選擇配備一個(gè)額外的位移傳感器，以在測(cè)試過(guò) 程中測(cè)量微束的水平位移，以便可以在該軸上執(zhí)行測(cè)試。    這允許對(duì) 樣品執(zhí)行一種剪切測(cè)試。

在配備了剪切測(cè)試功能的系統(tǒng)上，會(huì)直接向用戶提供特殊版本的軟 件。 在“設(shè)置參數(shù)編輯器"中，這允許選擇X剪切作為控制軸。 通過(guò) 為不同的測(cè)試集選擇不同的控制軸，可以按相同的測(cè)試順序執(zhí)行壓 縮和剪切運(yùn)動(dòng)。     對(duì)于剪切測(cè)試，正值在右邊。

剪切力測(cè)試

對(duì)于這些特殊配備的系統(tǒng)，X-Shear軸的其他數(shù)據(jù)列在數(shù)據(jù).csv文件 中輸出。      此外，測(cè)試期間的實(shí)時(shí)圖形還將包含該軸的其他數(shù)據(jù)輸 出。

同樣，圖像跟蹤設(shè)置通常會(huì)與單軸MicroTester      G2系統(tǒng)的設(shè)置不同。 跟蹤模板和搜索區(qū)域設(shè)置可以在“設(shè)置"菜單中的“高級(jí)"中找到。      這 將在提供的演示模板下預(yù)先設(shè)置為方形對(duì)話框，以便可以在兩個(gè)軸 上均等地執(zhí)行圖像跟蹤。       如果正在執(zhí)行單軸測(cè)試，則可以更改這些 設(shè)置，以便針對(duì)所使用的軸優(yōu)化模板和搜索區(qū)域。