浙江 殺菌劑加藥裝置

在金屬與金屬之間連接的縫隙處，水垢及微生物泥垢、泥沙等沉積物下的金屬表面，由于水的對流不暢使氧貧化，也會造成類似的腐蝕。特別是水垢等沉積物下的腐蝕，由于腐蝕產物被沉積物覆蓋住，循環水顯得清澈透明，給人以金屬未遭到腐蝕的假象。當腐蝕嚴重到一定程度時，腐蝕產物連同污垢一起脫落，堵住系統管徑較細的部位。此時再想采取水處理措施已太晚，因為某些腐蝕嚴重的部位金屬本體層已很薄，若用化學清洗或其他方法去除污垢后很可能造成系統漏水。由于腐蝕產物的阻擋，水中的溶解氧到達這個腐蝕點的速度減慢，形成腐蝕點四周的氧濃度大于腐蝕點的氧濃度，這樣，腐蝕點的四周便成為陰極，腐蝕點本身成為陽極，腐蝕繼續進行（此即為氧濃差梯度腐蝕）。

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或者通過對現場的排污量和補水量的計量，按一定的比例關系來進行藥劑的投加。由于系統容積很大，分析數據的滯后性、分析頻率的有限性以及系統存在泄漏等問題，要將水穩劑的濃度穩定控制在工業指標范圍內，還存在著一定的困難。針對以上問題和用戶要求，我們公司設計了利用熒光示蹤技術投加水處理劑方案，它采用*示蹤技術進行自動加藥。當您使用該裝置時，只要把我們生產的示蹤劑加入到貴廠現場使用的水穩藥劑中去，您的藥劑成了示蹤型水處理藥劑。操作時只需將循環水的回水引入控制儀的采樣水進口，此時水中的藥劑有效成份隨時被熒光示蹤儀所監測，同時在儀表顯示屏上顯示，并得到有效的控制。