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產品優勢

·全封閉式顯影，避免霧氣擴散到外部，污染環境。

·外殼噴塑，耐腐蝕，易清洗。

·內腔不銹鋼材質，鏡面拋光處理，光滑，耐腐蝕，易清洗。

·內置真空過濾器，防止液體吸入真空泵。

·真空壓力可調，壓力值實時顯示。

·液體流量可調，回吸可調。

產品參數

支持wafer尺寸：碎片至200mm（8"圓晶）

·轉速分辨率：±1 RPM

·旋涂速度：20-3000rpm（空載）

·旋涂加速度：20-10,000rpm/sec（空載）

·工藝時間設定： 0-3,000sec/step，時間設置精度： 0.1sec

·該機型適用于標準3路顯影機（1路顯影液，1路純水，1路氮氣）

·單步工藝及多步工藝可選，內置100組可編輯程序

·可根據客戶需求定制四管路顯影機或更大基片的顯影機。