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價(jià)格區(qū)間	面議	應(yīng)用領(lǐng)域	醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合
組件類別	光學(xué)元件

Eksma 高能偏振立方體分束器

高能量偏振分束器通過光學(xué)接觸以用于大功率應(yīng)用。它們具有準(zhǔn)確的表面質(zhì)量和高消光比。

Eksma 高能偏振立方體分束器

產(chǎn)品介紹

Ø光學(xué)接觸，適用于大功率應(yīng)用

Ø典型的損壞閾值：> 15 J / cm2、10 ns，10 Hz在1064 nm下

Ø尺寸-12.7 x 12.7 x 12.7毫米

Ø精密的表面質(zhì)量

Ø高消光比

高能偏振立方分束鏡由UV FS制成，經(jīng)過優(yōu)化，可用于355、532、800、1064 nm的波長或420-680 nm和700-1080 nm的波長范圍。

立方體分束器是光學(xué)接觸的，具有高達(dá)15 J / cm2的激光損傷閾值。立方分束器的所有四個(gè)外表面均具有抗反射鍍膜。提供高能量偏振立方體，未安裝或可方便地安裝在M2P的安裝座上。

產(chǎn)品型號(hào)

未安裝的立方偏振分束器

型號(hào)	工作波長	激光損傷閾值
435-1127	355 nm	>3 J/cm2 at 355 nm
435-1121	532 nm	>6 J/cm2 at 532 nm
435-1122	800 nm	>8 J/cm2 at 800 nm
435-1123	1064 nm	>15 J/cm2 at 1064 nm
436-1121	420-680 nm	>1 J/cm2 at 532 nm
436-1123	700-1080 nm	>2 J/cm2 at 1064 nm

固定式立方偏振分光鏡

型號(hào)	工作波長	激光損傷閾值
435-1127-M2Ps	355 nm	>3 J/cm2 at 355 nm
435-1121-M2Ps	532 nm	>6 J/cm2 at 532 nm
435-1122-M2Ps	800 nm	>8 J/cm2 at 800 nm
435-1123-M2Ps	1064 nm	>15 J/cm2 at 1064 nm
436-1121-M2Ps	420-680 nm	>1 J/cm2 at 532 nm
436-1123-M2Ps	700-1080 nm	>2 J/cm2 at 1064 nm

材料	UV FS
尺寸	12.7 x 12.7 x 12.7 mm
尺寸公差	±0.2 mm
消光比	>1:500
表面質(zhì)量	20-10表面光潔度 (MIL-PRF-13830B)
波前畸變	λ/10 @ 633 nm
通光孔徑	>85% of size
光束偏差	<3 arcmin
反射S偏振	>99.5%
透射p偏振	>97% for laser line >90% for broadband
激光損傷閾值	>15 J/cm2 10 ns pulses at 1064 nm

EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械，帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識(shí)。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。通過嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評(píng)估以及對(duì)新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認(rèn)證。必維檢驗(yàn)集團(tuán)（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。