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上海攸亦光電科技有限公司
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Eksma 線性偏振激光束的可變衰減器990-0071

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具體成交價以合同協議為準

產品型號

品       牌Eksma

廠商性質代理商

所  在  地上海市

更新時間:2024-04-23 13:48:27瀏覽次數:896次

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價格區間 面議 應用領域 醫療衛生,環保,化工,電子,綜合
組件類別 光學元件
Eksma 線性偏振激光束的可變衰減器990-0071
該可變衰減器/分束器包括用于偏振片的特殊設計的光機械適配器,其在56°840-0117A或840-0118A以及精密光機械支架840-0197。

Eksma 線性偏振激光束的可變衰減器990-0071

Eksma 線性偏振激光束的可變衰減器990-0071

該可變衰減器/分束器包括用于偏振片的特殊設計的光機械適配器,其在56°840-0117A或840-0118A以及精密光機械支架840-0197。

產品介紹

?將激光束分為兩束手動調節的強度比,以68°角分開

?大動態范圍

?透射光束偏移?0.5毫米

?高光學損傷閾值

?透射光束的衰減范圍:0.5%-95%

?反射光束的衰減范圍:5%-99.5%

該可變衰減器/分束器包括用于偏振片的特殊設計的光機械適配器,其在56°840-0117A或840-0118A以及精密光機械支架840-0197。薄膜布魯斯特型偏振片被容納在56°偏振片適配器中,該偏振片在反射56°的S偏振光同時透射P偏振光。石英半波片容納在旋轉支架840-0197中。

可以通過旋轉波片連續改變這兩個光束的強度比,而不會改變其他光束參數。可以在很寬的動態范圍內控制出射光束的強度或其強度比??梢赃x擇P偏振以獲得較大的透射率,或者當透射光束發生較大衰減時可以反射高純度s偏振。保持器840-0197允許將薄膜布魯斯特型偏振器的入射角調整±2°,并獲得較大的偏振對比度。


注意:實心基座高度擴展器820-0210和標準桿820-0020-20應單獨訂購。

產品型號

適用于Nd:YAG激光應用

型號

波長

激光損傷閾值

990-0071-355

355 nm

5 J/cm2 @ 1064 nm, 10 ns, 10 Hz

990-0071-532

532 nm

5 J/cm2 @ 1064 nm, 10 ns, 10 Hz

990-0071-1064

1064 nm

5 J/cm2 @ 1064 nm, 10 ns, 10 Hz

飛秒應用

型號

波長

激光損傷閾值

990-0071-257

257 nm

10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0071-266

266 nm

10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0071-343

343 nm

10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0071-400

400 nm

10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0071-400B

390-410 nm

10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0071-515

515 nm

10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0071-515B

505-525 nm

10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0071-800

800 nm

10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0071-800B

780-820 nm

10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0071-1030

1030 nm

10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0071-1030B

1010-1050 nm

10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

適用于高功率飛秒激光應用

型號

波長

激光損傷閾值

990-0071-257H

257 nm

100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0071-266H

266 nm

100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0071-343H

343 nm

100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0071-400H

400 nm

100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0071-400HB

390-410 nm

100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0071-515H

515 nm

100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0071-515HB

505-525 nm

100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0071-800H

800 nm

100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0071-800HB

780-820 nm

100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0071-1030H

1030 nm

100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0071-1030HB

1010-1050 nm

100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

適用于Nd:YAG激光應用

通光孔徑

10 mm

損害閾值

5 J/cm2
pulsed at 1064 nm, typical

偏振對比

>1:200


飛秒應用

通光孔徑

10 mm

損害閾值

            大功率激光應用:

>10 mJ/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical
>100 mJ/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical

時間分散

t<4 fs for 100 fs Ti:Sapphire laser pulses

偏振對比

>1:200

EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。


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